Occasion SVG 8632 #9255090 à vendre en France

SVG 8632 est un équipement de photorésistance développé par Shipley, une société spécialisée dans la photorésistance. C'est un type de technologie de masque qui est utilisé pour créer des motifs sur les surfaces semi-conductrices. Il est spécialement conçu pour les procédés de lithographie haute performance qui nécessitent des couches très minces de matériau de résistance. Il est également adapté pour produire de très petites tailles de caractéristiques sur des plaquettes extrêmement minces. Le système de photorésist est composé de deux composants cruciaux - une couche de photorésist et une couche dure sous-jacente. La couche de résine photosensible est sensible à la lumière et sert de couche de fixation. Il est constitué d'un matériau polymérique, tel que le polyméthacrylate de méthyle, la polyéthylénimine, ou un mélange de ceux-ci, qui contient un composé photoactif. La couche durcie est typiquement une couche mince d'oxyde, tel que l'oxyde de silicium ou l'oxyde de bore, qui joue le rôle de couche support et de barrière de diffusion. Dans l'unité de photorésistance 8632, un masque est utilisé pour contrôler l'exposition de la couche de photorésist et pour modeler la surface. Pour créer un motif à l'endroit souhaité, le masque est exposé à une source de lumière et la zone exposée interagit avec le composé photoactif dans la couche de résine photosensible. Cette interaction permet une réaction chimique et provoque le durcissement et l'insoluble de la zone exposée. La couche durcie empêche la réaction chimique de se produire ailleurs sur la plaquette. La photorésist SVG 8632 est capable de produire des tailles de caractéristiques extrêmement petites sur la plaquette. De plus, il offre un haut niveau de précision et de résolution lors de la fixation d'une surface de plaquette. En outre, il assure une grande cohérence de processus grâce à sa fenêtre de traitement très fiable et bien définie. En outre, il a un faible coût de propriété. Dans l'ensemble, 8632 photorésist outil est un choix idéal pour les processus de lithographie haute performance. C'est une technologie de masque fiable, précise et facile à utiliser qui produit de très petites tailles de fonctionnalités et une excellente cohérence de processus. Il a un faible coût de propriété et est bien adapté pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs.