Occasion SVG 8800 #9094408 à vendre en France

SVG 8800 est un équipement de photorésistance utilisé à la fois pour la photolithographie et la gravure de circuits intégrés (IC). C'est un outil polyvalent pour le traitement de matériaux tels que polymères, organiques, métalliques et composites. En tant que système de photolithographie haut de gamme, 8800 est utilisé pour des exigences de processus avancées et la fabrication de dispositifs critiques avec une grande précision. SVG 8800 se compose d'un scanner d'immersion, d'une source de faisceau, d'un générateur de motifs numériques et d'une configuration de capture d'image ou d'optique améliorée. Le scanner d'immersion fournit une gamme de champs de balayage pour supporter IC se résout jusqu'à 50 nm. Il utilise une ouverture numérique élevée (NA) de 1,35 et une plaque de masque spécialement conçue pour fournir une latitude de processus accrue. La source de rayon se compose d'un laser excimer circulé, une unité de formation de rayon et une fréquence a doublé le laser Nd:YVO4 qui émet à 532nm la longueur d'onde. Il offre un choix de longueur d'onde, de foyer et d'énergie d'impulsion pour exposer avec précision les photomasques avec une grande profondeur de contrôle de champ. Le générateur de motifs numériques est une machine automatisée qui traduit avec précision les données d'application de conception de circuit en paramètres d'impression précis nécessaires pour la source de faisceau. Cela permet d'optimiser l'exposition du substrat pour une variété de matériaux et de procédés. La capture d'image et la configuration optique améliorée capturent les images haute résolution du substrat avant et après impression. Il effectue également des mesures de motifs critiques pour les couches (CTL), des mesures de points et des caractérisations de canaux. En résumé, 8800 est un outil avancé de photolithographie offrant d'excellentes performances pour le traitement et l'imagerie. Il possède une gamme de caractéristiques telles qu'une ouverture numérique plus élevée, un contrôle de l'énergie des impulsions, un générateur de motifs automatisé et une capture d'image haute résolution. Combinés, ils lui permettent de fournir un traitement de précision pour la fabrication d'IC jusqu'à 50 nm de résolution.