Occasion SVG 8820 #293749266 à vendre en France

SVG 8820 est un système de photorésistance qui permet des processus de lithographie fiables dans la production de dispositifs à circuits intégrés (IC). Il s'agit d'une résistance aux UV profonds à tonalité positive qui est optimisée pour les approches à double battement telles que le double battement auto-aligné (SADP) et le double battement de tangage (PSC). Il s'est avéré être un outil essentiel pour réduire le coût de la création de petites tailles de fonctionnalités pour les IC. Au cœur du système 8820 se trouvent les matériaux photorésistants. Il s'agit de photorésistes liquides destinés à être appliqués sur une plaquette semi-conductrice dans un film mince et uniforme. Lors d'une exposition à des sources lumineuses telles que les lasers UV, la résine photosensible subit une réaction chimique qui la fait devenir insoluble dans une solution de révélateur. Cette insolubilité sélective permet le développement de structures lithographiques. SVG 8820 est optimisé pour une utilisation avec des outils de lithographie en immersion de 193 nm. Il est compatible avec des approches simples et doubles. Son absorbance UV profond permet une résolution plus élevée que les photorésistances traditionnelles et assure l'exposition des longueurs d'ondes UV profondes dans les processus simples et doubles. En outre, l'absorbance de 8820 assure une meilleure rugosité de bord de ligne, et réduit les effets topographiques et de bout de ligne. De plus, le SVG 8820 présente une sensibilité plus élevée que les photorésistes classiques, ce qui permet des débits de plaquettes exposées plus élevés par jour. Sa solubilité dans une solution de développement permet un traitement post-exposition rapide. Il fonctionne également bien avec les encres imprimables pour le rétrécissement au niveau des plaquettes, ce qui rend ce système particulièrement avantageux pour la mise à l'échelle du processus de lithographie pour une plus grande gamme de tailles de plaquettes. 8820 est conçu pour être utilisé dans des procédés de lithographie avancés pour les processus les plus exigeants dans la fabrication de puces. Sa haute résolution et sa sensibilité en font un choix idéal pour les appareils à double motifs en IC, et sa solubilité dans un développeur permet un processus rapide qui en fait un choix attrayant pour la production de plaquettes à grande échelle.