Occasion SVG 8838 VP #9183892 à vendre en France

SVG 8838 VP est un équipement photorésist haute performance conçu pour la gravure de précision dans la fabrication de semi-conducteurs. Ce système est composé de trois composants clés : la photorésist, le développeur et le stripper. La résine photosensible est un type de polymère qui possède des propriétés photosensibles et qui est utilisé pour masquer certaines zones sur un substrat avant gravure. Le révélateur est alors utilisé pour dissoudre la résine photosensible dans les parties désirées du substrat, laissant le matériau sous-jacent exposé et prêt à être gravé. Le décapant est ensuite utilisé pour retirer la résine photosensible restante de la plaquette. 8838 photorésist VP fournit une excellente précision en raison de son état liquide de faible viscosité et haute résolution de 0,2 micron, permettant des résultats de gravure extrêmement précis. Il agit également rapidement en raison de sa faible tension superficielle et de sa grande solubilité, ce qui le rend bien adapté au traitement rapide. La machine dispose d'un contrôle de processus étendu, permettant un contrôle précis du développeur, ainsi que des taux de gravure élevés avec de faibles niveaux d'érosion pour des résultats de gravure flexibles et efficaces. Cet outil est conçu pour plusieurs applications et est principalement utilisé pour la génération de modèles à un niveau et à plusieurs niveaux, ainsi que pour la création de fonctionnalités de ratio d'aspect élevé. SVG 8838 VP offre également une excellente solabilité et permet une gravure extrêmement fine et l'imagerie directe laser (LDI). L'actif présente une température de substrat basse, avec une plage de température comprise entre 16 ° C et 28 ° C, ce qui est particulièrement bénéfique pour les substrats sensibles à haute température, y compris le GaAs et le SiC. En résumé, 8838 VP est un modèle de photorésist développé pour la gravure de précision. Il offre une excellente précision et contrôle du processus et fournit une faible tension de surface et une grande solubilité pour des résultats d'action rapide. Son large éventail d'applications le rend adapté à une large gamme d'applications, y compris la génération de motifs à un niveau et à plusieurs niveaux, ainsi qu'à la création de caractéristiques de ratio d'aspect élevé. Elle est également intéressante pour les substrats sensibles aux hautes températures.