Occasion SVG 90 #293615917 à vendre en France

SVG 90 est un équipement de photorésistance de pointe développé par le fabricant de semi-conducteurs Shin-Etsu Chemical Corporation. Le système est composé d'un procédé de revêtement lithographique et d'un photomasque à motifs. C'est un outil utilisé pour créer des conceptions complexes avec imagerie haute résolution pour des structures semi-conductrices avancées. 90 est composé d'une couche de résine photosensible sensible à la lumière ultraviolette et d'un photomasque. Le photomasque est une mince feuille de plastique ou de verre recouverte d'un motif de film photographique. Ce motif bloque certaines parties de la lumière ultraviolette, créant un motif qui peut être utilisé pour créer une couche de résistance sur le substrat. La couche de résine photosensible est appliquée sur le substrat, suivie de l'exposition du substrat et du masque à la lumière ultraviolette. Le photomasque agit comme un pochoir, permettant seulement aux zones qui correspondent à son motif d'être exposées à la lumière ultraviolette. La lumière provoque une réaction dans la résine photosensible, qui réagit alors avec le substrat et est éliminée par gravure ou lavage chimique. SVG 90 est capable de produire des résolutions de sous-microns, ce qui permet des conceptions très fines et complexes. En outre, il est très fiable et possède une excellente stabilité thermique. Cela garantit qu'il est très résistant aux dommages de gravure et convient pour diverses méthodes de production. Ces caractéristiques font 90 machines adaptées à de nombreux types de structures semi-conductrices avancées. Il est le plus couramment utilisé dans la production de MEMS (micro-électrochimie) ainsi que dans la réalisation de structures nanométriques. De plus, le procédé SVG 90 est rentable, réduit l'impact environnemental et possède un haut degré de précision. Il augmente le rendement du processus de production et permet des débits plus élevés, ce qui peut réduire considérablement les coûts. En conclusion, 90 est un outil de photorésistance avancé développé par Shin-Etsu Chemical Corporation. Il est composé d'un procédé de revêtement lithographique et de photomasque à motifs. Cet atout est très fiable et produit des résolutions de sous-microns. Il convient à de nombreux types de structures semi-conductrices avancées, est rentable et réduit l'impact environnemental.