Occasion SVG 9022IS #9225181 à vendre en France

SVG 9022IS est un équipement de photorésistance, conçu pour l'exposition au masque et au cadre, qui repose sur des sources lumineuses ultraviolettes profondes et des lentilles ultraviolettes pour former un masque doux et dur sur un substrat. C'est un système de photorésistance spin-on qui utilise la technologie de photolithographie pour transférer un motif à un matériau, comme un substrat. Il dispose d'un sécheur photorésistant, et les développeurs sont conçus pour une utilisation à 90 ° C, ce qui permet des temps de traitement plus rapides et une meilleure résolution de l'image modelée. 9022IS utilise les dernières technologies, de sorte que le processus peut être fait avec facilité et contrôle. Il est basé sur une architecture mono-masque entièrement optique, et la sortie de l'unité est un masque tridimensionnel du motif optimal. La machine présente également une grande résistance à la lumière et à l'abrasion, et les motifs obtenus sont robustes et précis. L'outil dispose d'une lampe cathodique à quartz qui fournit une source lumineuse d'une excellente uniformité et intensité, avec une large gamme de sortie de 0.1mW à 62.8W, et il utilise de basses températures de fonctionnement. De plus, il dispose d'adhésifs à haut rendement qui assurent une excellente adhérence de la zone éclairée sur le substrat, éliminant le besoin d'adhésifs supplémentaires ou post-exposition. L'actif dispose d'un modèle de contrôle intelligent pour surveiller et ajuster les paramètres pendant l'exposition, ce qui permet une dose précise d'exposition. En outre, il peut également traiter le substrat avec un rayonnement UV en toute sécurité et sans risque d'endommagement. Il peut même détecter des particules étrangères et les enlever avec une très grande précision. SVG 9022IS offre aux utilisateurs la possibilité d'améliorer les modèles avec une grande précision, tout en prenant la chance de mauvais résultats à un niveau très faible. En plus des avantages technologiques qu'il offre, il peut offrir des performances et des profils de sécurité globaux améliorés par rapport aux systèmes de photorésistance classiques. L'équipement offre également un système d'imagerie haute résolution pour s'assurer que les motifs sont précisément situés et produits avec une excellente précision.