Occasion SVG / ASML 90 #9298643 à vendre en France

SVG / ASML 90
Fabricant
SVG / ASML
Modèle
90
ID: 9298643
Track system.
SVG/ASML 90 est un équipement photorésist haut de gamme développé et conçu par SVG (Advanced Semiconductor Materials Lithography). Ce système a été introduit en 1990 et il est utilisé pour créer des structures extrêmement précises et précises au niveau micro. L'unité de photorésistance fonctionne en utilisant de la lumière et des produits chimiques photosensibles (appelés photorésistes) pour générer des motifs sur la plaquette. Cette machine utilise un laser excimère de 193nm KrF avec une ouverture numérique de 0,75 pour émettre un faisceau lumineux qui est divisé en plusieurs bandes laser. Ce faisceau lumineux est ensuite utilisé pour exposer un produit chimique photosensible (la résine photosensible) qui est réparti sur la plaquette. La résine photosensible est ensuite attirée vers des zones choisies de la plaquette ou du substrat comme un aimant vers le fer, formant un motif en surface. L'outil SVG 90 permet une haute résolution, une grande vitesse et d'excellentes performances optiques pour la fabrication de puces semi-conductrices. Le temps d'exposition est de 14 à 18ms, selon la taille du champ d'exposition. Il utilise un avantage de profil de bord raide avec une résolution aussi haute que 0,17 µm lignes/espaces et a une précision de superposition de plan à plan de +/-2nm. Le modèle peut manipuler des plaquettes jusqu'à 200mm de diamètre avec un débit élevé de 45 à 70 plaquettes par heure. Il dispose également d'un équipement d'alignement vertical et horizontal qui garantit une précision d'alignement de +/-7,1 nm en vertical et de +/-3,9 nm en horizontal. De plus, il dispose d'un système sophistiqué de contrôle de la dérive et de la focalisation qui compense le désalignement de la plaquette par rapport à la plaquette et qui maintient des chevauchements constants sur la surface de la plaquette. ASML 90 est un outil inestimable pour l'industrie des semi-conducteurs et est un composant clé dans la production de puces. Il est capable de générer des motifs avec une grande précision, vitesse et résolution, permettant des progrès continus dans le domaine de l'électronique.
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