Occasion SVG / ASML 90S #39180 à vendre en France

SVG/ASML 90S est un équipement de photorésistance largement utilisé dans la production de puces semi-conductrices. C'est un système dit de lithographie par exposition indirecte qui utilise un matériau photosensible (photorésist) pour transférer sur un substrat les motifs générés par son ordinateur de bord. L'unité peut être configurée avec jusqu'à trois têtes d'exposition. La machine est composée de plusieurs sous-systèmes, à savoir un scanner, un étage de plaquettes, un applicateur de masque et un chargeur de plaquettes, qui sont reliés par un réseau à grande vitesse. Le scanner se compose de plusieurs composants optiques, ainsi que d'un étage mobile. L'étage est utilisé pour déplacer le substrat et est entraíné par des moteurs de haute précision. Pour modeler la photorésist, on projette sur le substrat de la lumière d'une longueur d'onde spécifique. Un outil d'étage haute vitesse et haute résolution assure alors que la lumière est dirigée avec précision vers sa cible à l'intensité désirée. L'applicateur de masque est situé à l'intérieur du scanner et reçoit un masque métallique, qui sert à projeter le motif sur le substrat. Le masque métallique lui-même comporte des ouvertures et des orifices de projection, dans lesquels la lumière de la longueur d'onde spécifiée est utilisée pour produire le motif désiré. Le chargeur de plaquettes ou chargeur/déchargeur est constitué de plusieurs composants qui sont utilisés pour s'assurer que chaque substrat est correctement aligné et chargé sur l'étage, ainsi que pour faciliter le transfert aisé du substrat dans et hors de l'actif. Une fois que le substrat est sur la scène et que le masque est dans l'applicateur de masque, la tête d'exposition est tirée, le faisceau lumineux est focalisé sur la résine photosensible, et le motif est projeté sur la surface. La tête d'exposition contient un ensemble de capteurs et de contrôleurs, qui assurent que le motif est projeté avec précision avec l'intensité appropriée. Enfin, l'étage de plaquette est utilisé pour décharger le substrat du modèle et établir le prochain max pour le processus d'exposition. Une fois le substrat déchargé, le processus d'exposition est répété jusqu'à ce que le motif désiré soit réalisé sur le substrat. L'équipement de photorésistance SVG 90S est idéal pour les opérations de production à haut volume, car il est capable de produire des résultats précis et cohérents.