Occasion SVG / ASML 90S #9032372 à vendre en France

SVG/ASML 90S est un équipement de photorésistance développé par SVG pour fournir des performances et une fiabilité supérieures aux fabricants de semi-conducteurs à un prix compétitif. Le système est une unité d'exposition entièrement automatisée, de haute précision et contrôlée par ordinateur qui utilise un masque à fente scannable pour permettre le transfert précis de motifs optiques calculés sur des surfaces photorésistantes lors de la fabrication de dispositifs microélectroniques. La machine utilise une source de lumière spécialement conçue pour exposer la photorésist, avec une combinaison personnalisable de lumière laser et d'imagerie par faisceau électronique. SVG 90S offre une résolution et un contrôle superbes en raison de la précision bien définie du masque à fente de balayage, qui peut être modulé pour différents niveaux d'exposition, et de sa capacité à compenser les variations d'exposition. Cet outil permet également de polariser latéralement les substrats qui peuvent affecter la dimension critique (CD) et la latitude d'exposition. ASML 90S offre une grande uniformité et répétabilité en raison de son mouvement de balayage et de son miroir lamellaire tout aluminium, qui peut être utilisé pour diriger une large gamme de doses à partir d'une seule source ponctuelle. Sa synchronisation répétable des masques de balayage et de la source lumineuse offre une excellente répétabilité du CD et de la latitude d'exposition sur une large gamme de formes et de tailles de substrat. L'actif supporte également de nombreuses chambres de traitement qui peuvent optimiser la qualité de l'image, réduire les niveaux de particules et de défauts, et améliorer le rendement global. La précision de dose du modèle photorésist est remarquable en raison de sa capacité à compenser toute variation d'exposition, de ses points sources à haute résolution, ainsi que de sa conception optimisée de la source lumineuse et de la chambre. Dans l'ensemble, 90S équipement photorésist offre une excellente fiabilité et performance grâce à son système d'exposition contrôlé par ordinateur, une large gamme de doses, une grande uniformité et répétabilité, et sa conception optimisée de chambre. Ses capacités avancées permettent aux fabricants de semi-conducteurs de fabriquer des circuits intégrés de haute qualité avec des caractéristiques précises et des réponses de substrat contrôlées.