Occasion SVG / ASML 90S #9245069 à vendre en France

Fabricant
SVG / ASML
Modèle
90S
ID: 9245069
Taille de la plaquette: 6"
(2) Coater / (2) Developer track system, 6" (4) Cassette loaders MILLIPORE Photoresist pump (4) Chill plates (5) Hot plates Full enclosure HDMS Module MICROBAR Trackmate 4-Port chemical delivery cabinet Manual control unit.
SVG/ASML 90S Photoresist Equipment est un outil de lithographie utilisé dans la fabrication de puces semi-conductrices. En tant que tel, il est un élément clé dans la capacité de l'industrie des semi-conducteurs de produire des puces toujours plus réduites et de plus en plus puissantes avec des caractéristiques complexes. Le système combine un traitement résistant au faisceau d'électrons, une optique d'imagerie avancée, une technologie d'alignement des plaquettes et des systèmes avancés de manutention des plaquettes pour créer la meilleure géométrie et topographie de puce possible. SVG 90S comprend deux composantes : le module optique et le module support. Le module optique est équipé d'une colonne à particules chargées (électrons), d'une optique d'imagerie, d'un environnement d'exposition à faible résistance au vide et d'une unité de déclenchement servant à contrôler l'exposition au faisceau d'électrons. Le module d'optique peut être programmé pour produire des caractéristiques très précises dans les couches de résistance pendant le processus d'exposition, compensant toute distorsion due à la topographie de la plaquette ou aux erreurs d'impression. Le module de support sert à assurer l'alignement automatisé des plaquettes, la manutention des substrats et le chargement des cassettes. Toute la machine fonctionne en filant d'abord la plaquette jusqu'à ce qu'elle soit à la bonne vitesse, puis la colonne de faisceau d'électrons commence à tirer des électrons vers le bas sur la couche de résine de la plaquette. Les électrons sont déviés et focalisés sur les caractéristiques souhaitées de la conception de la puce à travers l'optique d'imagerie. La précision et la précision de l'exposition sont contrôlées par l'outil de déclenchement du module optique, qui est conçu pour chronométrer et guider le faisceau d'électrons de manière très précise. Une fois l'exposition terminée, l'actif est programmé pour déplacer la plaquette vers le module de support pour l'alignement, le chargement des cassettes et la manipulation du substrat. La combinaison du traitement de résistance au faisceau d'électrons du module optique et de la manipulation automatisée du module de support d'ASML 90S offre une excellente précision et répétabilité, lui permettant de générer et de reproduire avec précision les caractéristiques souhaitées sur les plaquettes. Ce modèle est donc extrêmement précieux dans la fabrication de puces semi-conductrices avancées, permettant aux fabricants de créer des puces toujours plus puissantes, efficaces et de petite taille.
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