Occasion SVG / ASML 90S #9298645 à vendre en France

SVG/ASML 90S est un équipement de photorésistance avancé utilisé pour la lithographie optique et le microprocessage. Il utilise des techniques d'imagerie de pointe pour transférer des dessins d'un film à l'autre. SVG 90S utilise un générateur de motifs et un scanner laser pour générer et projeter des images ultrafines sur un photomasque. Le photomasque est ensuite exposé à une source de lumière ultraviolette pour transférer l'image sur un substrat revêtu de photorésist. La résine photosensible agit comme un masque, permettant à certaines zones d'être exposées et empêchant d'autres d'être exposées. Le système est précis au niveau angstrom : il peut rendre les microstructures jusqu'à 1 nanomètre de taille. L'unité ASML 90S utilise un produit chimique propriétaire, le SVG Resist™, pour faciliter la résolution de structures délicates et de microdispositions. Le Resist est spécialement conçu pour être photosensible à la lumière du scanner laser, d'où une augmentation de l'efficacité pour les structures délicates. En plus de ses capacités de haute résolution, 90S machine est également extrêmement rapide. Il peut exposer des substrats revêtus de photorésist en quelques secondes, permettant une production rapide et fiable de grands volumes de composants. La combinaison de vitesse et de précision rend l'outil SVG/ASML 90S idéal pour produire une large gamme de composants, y compris les transistors, les biocapteurs et les systèmes microélectromécaniques. L'actif est également fréquemment utilisé dans des domaines de haute précision, comme la santé, l'automobile et l'aérospatiale, où la précision et la vitesse sont essentielles. Globalement, le modèle photorésist SVG 90S est une méthode extrêmement précise, rapide et efficace de production de composants délicats pour une variété d'industries. Sa combinaison de vitesse et de résolution en fait un choix idéal pour la lithographie laser et les applications de microprocessage.