Occasion SVG / ASML 90S #9314698 à vendre en France

SVG/ASML 90S est un équipement de photorésistance laser utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Il est utilisé pour définir les modèles de lithographie et d'autres procédés de fabrication. Le système SVG 90S utilise un laser pour exposer un revêtement photosensible appliqué sur un substrat. La lumière laser est dirigée sur le substrat à travers une série de lentilles et de miroirs qui créent le motif désiré. Le substrat est ensuite développé pour former une résine qui empêchera une partie de la matière exposée d'être éliminée ultérieurement. La lumière laser est d'abord amplifiée par un cristal d'aluminium yttrium dopé au néodyme (Nd : YAG), et déterminée par un scanner commandé par ordinateur. Le laser YAG induit en outre des effets photoélectriques sur la résine photosensible exposée créant une faible non-uniformité de la section transversale dans la région exposée. Ces caractéristiques, ainsi que l'intensité de la lumière, peuvent être modifiées pour ajuster les performances de la résine photosensible dans le processus de production. Le laser est ensuite focalisé sur la plaquette à l'aide d'une série de lentilles. Une unité d'ouverture numérique variable (NA) permet la formation de formes et de tailles de motifs différentes sur la résine photosensible. Un séparateur de faisceau peut également être utilisé pour augmenter la résolution d'exposition. La focalisation du laser peut être contrôlée par une machine à rétroviseurs à gaufres automatisée pour s'assurer que l'exposition est correctement appliquée sur l'ensemble de la plaquette. L'outil ASML 90S est utilisé en conjonction avec les systèmes de traitement de la résistance au bain d'eau déionisé, de levage Steagall et de cuisson post-exposition. Cet atout peut être utilisé pour créer des modèles de lithographie de haute précision avec des temps de développement allant de quelques secondes à plusieurs minutes. Ces motifs peuvent aller des grandes fonctionnalités (VLSI) aux plus petits circuits microélectroniques. 90S modèle est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour créer des modèles de lithographie pour les processus de fabrication. L'équipement fournit des expositions précises et cohérentes avec une perte d'énergie minimale, permettant les meilleurs résultats possibles dans la production. Sa capacité à produire des motifs uniformes avec des caractéristiques extrêmement petites a permis la création de dispositifs microélectroniques complexes et avancés.