Occasion SVG / C&D SEMI 86 Series #293655065 à vendre en France
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SVG/C & D SEMI 86 Series Photoresist Equipment se compose de plusieurs éléments qui se réunissent pour permettre le transfert de motifs fins sur différents substrats. Il utilise un scanner photomasque spécial à haute résolution pour produire une image précise sur la plaquette, puis l'image résultante est transférée sur le substrat par un procédé chimique exposé. Le photomasque est également utilisé pour effacer ou effacer les motifs pour permettre le repatterning de la plaquette de puce. Le scanner photomasque avec une résolution de 15nm et un rapport d'aspect de 4096x2096 pixels peut scanner avec précision les puces avec une plus grande précision que les systèmes traditionnels basés sur la caméra. Le scanner photomasque peut également scanner avec précision les emplacements étroits, ce qui permet de mettre des conceptions plus complexes sur les puces. En plus du scanner photomask, SVG Série 86 Photoresist System comprend également une unité de refroidissement qui aide à maintenir la température optimale pour le photomasque et la plaquette pendant le fonctionnement. Ceci permet de limiter au minimum les dommages causés par la dilatation thermique, en assurant un transfert précis des motifs sur le substrat. De plus, la machine utilise également des résistances liquides propriétaires, offrant une résistance photosensible de meilleure qualité et de plus longue durée que les résistances photorésistes traditionnelles. Le photomasque produit par C&D SEMI 86 Series Photoresist Tool est compact et léger, ce qui le rend facile à déplacer et à stocker. Il présente à la fois un mouillage uniforme du photomasque et une excellente adhérence de la photorésist, assurant une excellente qualité et reproductibilité du motif transféré sur le substrat. Grâce à sa compatibilité avec les tailles mini et standard des photomasques, l'actif peut facilement répondre aux exigences et aux contraintes des différentes conceptions de puces. Dans l'ensemble, le modèle photorésist série 86 est un équipement de photorésistance avancé qui permet le transfert précis et de haute qualité de motifs fins sur des substrats. Avec sa conception robuste, son scanner photomasque haute résolution et ses résistances liquides, le système offre une excellente précision, fiabilité et rentabilité pour la production et le développement de puces.
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