Occasion SVS CIE-DV3-028 #9364592 à vendre en France

SVS CIE-DV3-028 est un équipement de photorésistance utilisé en photolithographie pour produire des structures nanométriques, des couches minces et d'autres motifs sur une surface de substrat. La photorésist est une matière organique qui est appliquée en couche mince et exposée à la lumière, ce qui provoque une réaction chimique par laquelle seules les zones exposées de la photorésist sont éliminées ou modifiées. Les autres zones, ou caractéristiques structurées, constituent la base d'un large éventail d'opérations de traitement des matériaux. CIE-DV3-028 est un type de système de photorésistance positive à base de novolak, composé d'une photorésist, d'un développeur et d'un amplificateur de développeur. L'unité de photorésistance à base de novolak offre une résolution, une définition et une fidélité d'image supérieures à celles des autres systèmes de photorésistance. La machine est optimisée pour 193 nm, 248nm, et d'autres longueurs d'onde DUV et EUV. L'outil SVS CIE-DV3-028 utilise la chimie acide exclusive pour améliorer la résolution. Cela permet des caractéristiques plus serrées avec une largeur de pont faible (< 1 %). De plus, c'est l'un des systèmes photorésistants les plus minces du marché, avec une épaisseur de seulement 0,2 μ m lorsqu'il est durci. Cette propriété offre une meilleure uniformité de développement sur la surface du substrat, ce qui est particulièrement bénéfique pour les procédés de lithographie haute résolution. En termes de flexibilité du procédé, CIE-DV3-028 actif de photorésist peut être utilisé en conjonction avec les processus de développement humide et sec. Le modèle offre également des cures post-exposition améliorées et des reflets thermiques. Les utilisateurs peuvent s'attendre à une excellente protection contre les bourrelets, les vides et la contamination, car l'équipement facilite les processus de gravure répétables. Le système SVS CIE-DV3-028 est également très fiable ; la capacité d'imagerie robuste de l'unité offre des performances de modélisation uniformes et fiables dans des conditions difficiles pour l'environnement. Ceci est bénéfique dans les situations où la température, l'humidité ou d'autres paramètres de traitement présentent un degré élevé de variabilité. Globalement, CIE-DV3-028 machine offre une gamme de fonctionnalités avancées qui en font un choix idéal pour une large gamme d'applications de photolithographie. La résolution supérieure de l'outil et ses performances fiables en font un choix fiable pour le développement de modèles à l'échelle des nanomètres et d'autres caractéristiques pour l'industrie des semi-conducteurs.