Occasion SVS MSX-1000 #9364566 à vendre en France
URL copiée avec succès !
SVS MSX-1000 est un équipement de photorésistance développé par Swedish Vacuum Systems (SVS) qui intègre une gamme complète de technologies innovantes, y compris les systèmes de vide avancés, la technologie d'imagerie et l'automatisation robotique. Le système repose sur une technologie de vide avancée qui combine un certain nombre de composants interconnectés en une seule unité intégrée. Il utilise une combinaison d'imagerie bidimensionnelle haute vitesse, d'extraction sous vide et d'application sous vide pour garantir des résultats reproductibles et fiables. La machine utilise un procédé semi-automatisé unique qui permet des niveaux de débit plus élevés en ce qui concerne le dépôt et le développement de couches minces résistives et de composants MEMS. La technologie d'imagerie de l'outil, qui permet l'imagerie détaillée des substrats et des motifs pour assurer un processus de dépôt précis, soutient à la fois la lithographie optique standard et de nouvelles techniques de gravure. Il est capable d'imager des substrats jusqu'à 500mm2 de taille et dispose d'une gamme de modes d'imagerie, allant du contact à l'ultra-violet extrême. L'actif dispose également d'une fonctionnalité active de rétroéclairage, qui peut être utilisé pour permettre l'imagerie de contraste et l'éclairage du dos. Le modèle sous vide est capable de transférer les matériaux et les liquides rapidement et avec précision tout en offrant des niveaux élevés de précision et de répétabilité. Ses différents composants comprennent un bras robotique pour le transfert automatisé de pièces, un évaporateur thermique pour le dépôt de couches minces, et un équipement de pulvérisation pour le dépôt de métaux. L'effet combiné des caractéristiques avancées de SVS MSX 1000 est qu'il permet le dépôt précis et cohérent de couches photorésistantes protectrices pour la planarisation ou le traitement ultérieur. En combinant les capacités d'imagerie et de dépôt du système, il est possible de créer des caractéristiques répétables avec des micro-échelles de qualité constante jusqu'au niveau des sous-microns. En outre, MSX-1000 offre un support logiciel complet qui permet le contrôle précis du processus de dépôt et l'analyse des images. Ceci assure l'adhérence optimale des couches de photorésist et la résolution la plus élevée possible des images appliquées. MSX 1000 est une puissante unité de photorésistance conçue pour optimiser le dépôt de couches protectrices et l'application précise de motifs micro-échelle sur une gamme de substrats et de matériaux. Il dispose d'une large gamme de fonctionnalités innovantes telles que les systèmes de vide avancés, la technologie d'imagerie et l'automatisation robotique qui en font un choix idéal pour une variété d'applications industrielles.
Il n'y a pas encore de critiques