Occasion SVS / SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000-3C #9358813 à vendre en France

SVS/SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000-3C L'équipement de photorésistance est un outil robuste et fiable idéal pour gérer des processus de lithographie compliqués. Il offre une solution très fiable et rentable pour des environnements de production à haut volume. SVS MSX-1000-3C utilise un ton négatif unique, la résistance photovoltaïque circumbinaire (PV) pour permettre aux fabricants de profiter de la résolution supérieure et de la stabilité lumineuse des processus de photorésist de ton négatif. Le système dispose d'un détecteur de résistance à trois sources qui offre un niveau fiable de détection photovoltaïque et une capacité de lithographie de niveau avancé. L'unité est capable de manipuler un large éventail de tailles et d'épaisseurs de substrat, et fournit une solution rentable pour la production à grande échelle de composants et de dispositifs de puce. SOLUTIONS DE VALEUR SCIENTIFIQUE MSX-1000-3C utilise un scanner optique à balayage de faisceau d'électrons (SEB) pour créer une image ou un motif sur le ton négatif, circumbinaire, résistant PV. Le scanner optique SEB est capable de contrôler avec précision le diagramme du faisceau, la vitesse de balayage et les niveaux d'exposition pour une large gamme de tailles et d'épaisseurs de substrat. En outre, MSX-1000-3C est conçu pour créer des images haute résolution avec une résolution maximale de 25 microns par pouce linéaire (0,0881mm/pouce). La machine est également équipée d'une suite avancée d'analyse de surface de plaquettes, qui peut être utilisée pour détecter les défauts et les anomalies du matériau. SVS/SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000-3C comprend un processeur de substrat puissant, fournissant un contrôle de processus avancé et l'automatisation pour assurer une qualité d'image cohérente. Le processeur peut stocker jusqu'à six motifs prédéfinis et trois tailles de substrat. Il dispose également d'un contrôle d'exposition adaptatif avec temps d'exposition réglable, ainsi qu'un temps de balayage rapide et une capacité de cartographie photoénergétique. En outre, le processeur utilise des algorithmes d'imagerie avancés et la modélisation mathématique pour assurer une précision de lithographie optimale. En outre, SVS MSX-1000-3C photoresist outil comprend un logiciel robuste qui automatise le processus de lithographie. Le logiciel permet aux utilisateurs de contrôler la vitesse de balayage, les niveaux d'exposition, la qualité d'image et le temps d'exposition. En outre, le logiciel fournit une interface utilisateur graphique intuitive pour une navigation facile et fournit une bibliothèque étendue de programmes flexibles. Ces programmes permettent aux utilisateurs de concevoir et d'analyser les modèles rapidement et avec précision tout en maintenant la répétabilité et la robustesse des processus. Enfin, SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000-3C photoresist asset offre un large éventail d'outils de diagnostic et de support. Le modèle comprend un équipement de maintenance intelligent qui surveille la santé du système et effectue les ajustements d'étalonnage appropriés. En outre, il comprend un logiciel d'accès sécurisé pour les données de processus archivées et les réparations, et fournit un soutien technique complet. Le logiciel d'accès sécurisé garantit que toutes les données sont stockées et sauvegardées en toute sécurité afin de réduire les temps d'arrêt.