Occasion SVS / SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000C #9244973 à vendre en France

SVS/SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000C Photoresist Equipment est un système de pointe qui est utilisé pour créer des photomasques de haute qualité pour les industries des micropuces et des appareils photoniques. Il offre aux utilisateurs une productivité, une flexibilité et une précision maximales dans l'exécution des tâches de traitement des photomasques. SVS MSX-1000C utilise une unité d'alignement de masque à 4 faisceaux, composée de projecteurs laser et de caméras de détection, pour aligner automatiquement des masques de pochoir sur la plaquette de substrat. Cela garantit des résultats de reproduction précis et augmente le débit autrement impossible à réaliser avec l'alignement manuel. De plus, des systèmes de vision avancés sont installés sur les aligneurs de masque qui permettent l'alignement et l'identification automatiques des plaques de substrat, ainsi que des erreurs de position de masque corrigées automatiquement. SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000C comporte des expositions à angle variable et à réduction/grossissement, ainsi qu'une machine de correction pré-exposition intégrée. Les autres technologies incluses dans cet outil sont la détection automatique de positionnement des plaquettes (AWPD) et la détection des bords (ED). Ces technologies permettent une plus grande précision dans les opérations de production, des résultats de lot à lot plus cohérents, et la capacité de produire des masques avec une plus grande résolution et un meilleur contrôle sur les largeurs de ligne. En outre, MSX-1000C comprend des technologies avancées de nettoyage et de séchage qui imposent une contamination ou une distorsion minimale sur la surface de contact de la plaquette. De plus, les environnements contrôlés par la température et l'humidité contribuent à réduire la distorsion et la contrainte thermique subies par le masque et le substrat au cours de son processus de fabrication. SVS/SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000C peut accepter un large éventail de matériaux, y compris du silicium polycristallin, du nitrure de silicium, des métaux et du verre. Il peut également accueillir des substrats jusqu'à 5 pouces de diamètre, ce qui permet un traitement à haut volume en peu de temps. Dans l'ensemble, SVS MSX-1000C Photoresist Asset offre un maximum de précision, de contrôle et de flexibilité dans le traitement des photomasques. Il s'agit d'une solution idéale pour les fabricants qui cherchent à atteindre une précision globale et à améliorer le rendement des processus de manière rapide et rentable.