Occasion TAIWAN UYEMURA AELPE-1206 #293607136 à vendre en France

TAIWAN UYEMURA AELPE-1206 est un équipement de photorésistance très sophistiqué. Le système utilise un revêtement chimique liquide, qui est appliqué sur un substrat, tel qu'une carte de circuit imprimé, ou d'autres types de composants de circuit. Ce liquide contient des molécules de photorésist positives ou négatives, qui sont déclenchées sélectivement par l'exposition à une source lumineuse déterminée. Une fois la molécule de photorésist activée par la source lumineuse, elle subira un changement chimique qui soit va graver les parties exposées du substrat, soit former un revêtement protecteur sur celui-ci. Ceci permet de déposer de fines couches de métal sur le substrat avec une grande précision. L'unité est conçue pour être extrêmement précise et peut produire des conceptions extrêmement complexes avec des niveaux élevés de précision et de résolution. La machine photorésist est utilisée dans un ensemble d'applications, y compris la création de circuits sur des cartes de circuits imprimés, l'usinage des métaux et des matières plastiques, fabrication de matériel médical, et même création de pièces d'art. L'outil est composé de plusieurs composants, qui comprennent l'unité de photorésist, un réservoir de solution et une source de lumière pour l'exposition de la photorésist autour du substrat. L'unité de photorésist est typiquement un liquide non volatil qui peut être préparé sous forme concentrée, ou dilué avec un solvant. Il répond à la lumière en termes de longueur d'onde et doit donc être adapté à la source lumineuse spécifique. La source de lumière peut provenir d'une lumière ultraviolette, d'une lumière LED ou d'une lumière bleue utilisée pour l'exposition. En fonction de la sensibilité de la résine photosensible et de la conception souhaitée, la quantité d'exposition à la lumière peut varier considérablement. Pour assurer la cohérence de la résine photosensible, le réservoir de solution doit être nettoyé et rempli périodiquement. Les impuretés et les contaminants peuvent causer de graves dommages au photorésist et créer une gravure involontaire du substrat. En termes de sécurité, AELPE-1206 est conçu pour être sûr à utiliser. La source lumineuse utilisée dans l'actif est conçue pour être de faible puissance et conforme aux normes de sécurité internationales. La résine photosensible elle-même est également formulée comme une solution chimique non toxique et non irritante. Dans l'ensemble, TAIWAN UYEMURA AELPE-1206 est un modèle de photorésist avancé qui est très précis et précis. En utilisant les sources lumineuses et la solution photorésist appropriées, l'équipement est en mesure de créer des motifs complexes sur différents substrats avec une grande précision et une grande résolution. Ce système est utilisé dans de nombreuses applications et est conçu pour être sûr à utiliser.