Occasion TAKADA TWPS-064-TJ #9266615 à vendre en France

TAKADA TWPS-064-TJ est un système de photorésist à action négative conçu pour une application dans le domaine de la fabrication de dispositifs micro et opto-électroniques. Il offre une résistance à la gravure et une résolution supérieures, et convient à la fois pour les procédés de photorésistance de film épais et de film mince. La résine photosensible est composée d'une formule conçue pour l'acide à action négative, qui permet une réticulation rapide au site acide lors de l'exposition à la lumière UV. Cette fonctionnalité permet une gravure haute résolution de motifs très fins, ce qui la rend idéale pour la fabrication de dispositifs micro et opto-électroniques. La résine photosensible est disponible sous la forme d'un liquide de type pâte avec une viscosité allant jusqu'à 1,4 poise. Il peut être appliqué sur le substrat à l'aide d'une racle, d'un sérigraphie ou d'un procédé de spin-coating. Une fois la résine appliquée sur le substrat, elle peut alors être exposée à la lumière UV à l'aide soit d'un masque réfléchissant, soit d'un masque non réfléchissant. Lors de l'exposition, les zones exposées de la résine subissent une réticulation rapide due à la formule à base d'acide, créant une structure polymérisée qui offre une résistance supérieure à la gravure. Cela garantit que seules les zones exposées de la résine seront affectées pendant le processus de gravure. En conséquence, des motifs très précis et complexes peuvent être réalisés. Après exposition, la résine photosensible devra être développée et cuite pour compléter le processus. Le procédé de mise au point élimine les zones exposées mais non exposées de la résine, et le procédé de cuisson assure que la réaction à base d'acide est complète et élimine les solvants en excès et les composants non réticulés de la résine photorésistante. TWPS-064-TJ est un système photorésist fiable et très efficace qui offre une résistance à la gravure supérieure pour des motifs précis et complexes. Avec sa formule à base d'acide, il offre des résultats fiables et reproductibles pour une large gamme de fabrication d'appareils micro et opto-électroniques. Le liquide de type pâte est facile à appliquer sur le substrat à l'aide d'une racle, d'un sérigraphie ou d'un procédé de spin-coating. Il peut ensuite être exposé à la lumière UV, développé et cuit pour des résultats fiables et reproductibles pour des motifs complexes et à haute résolution.