Occasion TAZMO Semix #293597130 à vendre en France

TAZMO Semix est un équipement de photorésistance utilisé dans le processus de gravure et de gravure des plaquettes semi-conductrices. Il se compose de deux composants principaux - le revêtement de la résine photosensible et son processus de développement. La photorésist est un mélange chimique appliqué sur la plaquette, généralement à l'aide d'un spin-coater. Le revêtement photorésist contient un agent sensible à la lumière, qui sera exposé à une source lumineuse. L'exposition provoque un changement chimique dans la résistance, qui peut être utilisé pour créer un modèle. Le processus de développement suit, où la résine est ensuite traitée avec un agent de développement et les zones non exposées à la lumière sont éliminées. Grâce à la combinaison du revêtement photorésist et du processus de développement, les ingénieurs sont en mesure de fabriquer avec précision des motifs sur des matériaux avec une plus grande efficacité, par rapport à d'autres méthodes. Les photorésistes de Semix utilisent une formulation à base d'acrylique, avec un mélange unique de composés photoactifs de haute performance et d'additifs propriétaires de flux organiques. Cette formulation exclusive offre une résistance à la gravure supérieure et une définition tranchante par rapport à d'autres photorésistants sur le marché. Avec un faible coût de possession et des caractéristiques supérieures, le système photorésist TAZMO Semix est idéal pour une utilisation dans l'industrie de la fabrication de plaquettes. L'unité offre également une excellente adhérence et flexibilité dans une variété de matériaux semi-conducteurs. Semix photoresist a des propriétés d'arche supérieures qui lui permettent de protéger efficacement les matériaux sous-jacents tout en permettant le transfert des motifs avec résolution et précision. Les revêtements photorésistants TAZMO Semix ont d'excellentes et larges propriétés de passivation, de propreté et d'absence de vide. Il contient également une solution brevetée à base d'eau qui facilite le développement et le nettoyage à basse température. La machine est conçue pour être utilisée sur divers substrats, dont l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, le quartz, l'oxyde d'aluminium, etc. Enfin, les systèmes photorésist Semix offrent également une protection efficace contre les gravures post-processus et sont disponibles dans un large éventail de sensibilités. L'outil est idéal pour le traitement à faible coût du diagnostic, des tests et d'autres applications très critiques. La large gamme de sensibilités et d'options de personnalisation font de TAZMO Semix le choix idéal pour la fabrication de tout type de produits semi-conducteurs.