Occasion TEL / TOKYO ELECTRON 2L80-004142-V1 #293772242 à vendre en France

ID: 293772242
Style Vintage: 2020
RF Filter 2020 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON 2L80-004142-V1 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour des procédés de fabrication de semi-conducteurs qui nécessitent un marquage précis des matériaux photorésistants sur des substrats. Ce système de pointe allie une technologie de pointe et des fonctionnalités innovantes pour offrir une haute performance, précision et fiabilité dans les processus de photolithographie. Au cœur de TEL 2L80-004142-V1 unité est sa capacité à fournir un contrôle sans précédent sur le dépôt et le développement de matériaux photorésistants. La machine utilise une combinaison d'optique avancée, de techniques de microlithographie et de processus automatisés pour obtenir une résolution au niveau submicronique et une uniformité dans le transfert de motifs. Ce niveau de précision est essentiel pour la fabrication de circuits intégrés, d'écrans plats, de dispositifs MEMS et d'autres composants microélectroniques dont les petites tailles sont primordiales. L'outil TOKYO ELECTRON 2L80-004142-V1 est équipé de plusieurs sous-systèmes et composants qui travaillent ensemble de manière transparente pour offrir des performances exceptionnelles. L'actif comprend un distributeur de photorésist pour distribuer avec précision des matériaux de photorésist sur le substrat, un module de revêtement pour assurer une couverture uniforme du substrat avec la couche de photorésist, et une station de cuisson pour la cuisson post-application du film de photorésist. Une des caractéristiques clés de 2L80-004142-V1 modèle est son alignement précis et ses capacités de positionnement. L'équipement intègre des capteurs et des algorithmes d'alignement avancés pour assurer un alignement précis du masque et du substrat lors de l'exposition, ce qui est crucial pour réaliser des essais de haute résolution avec un minimum d'erreurs de recouvrement. De plus, le système utilise des mécanismes dynamiques de contrôle de la focalisation pour maintenir des conditions de focalisation optimales sur toute la surface du substrat, améliorant ainsi la qualité et la cohérence du transfert de motifs. En termes de débit et de productivité, l'unité TEL/TOKYO ELECTRON 2L80-004142-V1 est conçue pour un fonctionnement à grande vitesse sans compromettre la précision et la répétabilité. La machine dispose de temps de cycle rapide pour la distribution, le revêtement, l'exposition et les processus de développement, permettant un traitement efficace des substrats dans un environnement de production. En outre, l'outil est équipé de fonctionnalités d'automatisation avancées, telles que la manipulation robotique et les capacités de surveillance en temps réel, pour rationaliser le flux de travail et minimiser l'intervention de l'opérateur. TEL 2L80-004142-V1 se caractérise également par sa polyvalence et sa flexibilité pour s'adapter à un large éventail de tailles et de matériaux de substrat. Le modèle supporte différents types de substrats, y compris des plaquettes de silicium, des substrats en verre et des substrats flexibles, et offre une flexibilité dans la manipulation de différentes formulations photorésistantes et paramètres de processus. Cette polyvalence rend l'équipement adapté à une gamme variée d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs, du prototypage R&D à la production à haut volume. En conclusion, le système photorésist TOKYO ELECTRON 2L80-004142-V1 représente un sommet de l'innovation technologique dans les équipements de photolithographie. Avec ses caractéristiques avancées, ses performances de précision, sa productivité élevée et sa polyvalence, cette unité est prête à répondre aux exigences exigeantes des procédés modernes de fabrication de semi-conducteurs et à contribuer au développement d'appareils électroniques de nouvelle génération.
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