Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #293630206 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12
ID: 293630206
Style Vintage: 2010
System 2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé pour diverses applications de fabrication de semi-conducteurs. Le système est capable de gérer une large gamme d'étapes critiques de photolithographie, permettant aux ingénieurs d'atteindre des caractéristiques de haute résolution aussi petites que 10 nanomètres. Il dispose d'une source programmable, multi-puissance, permettant un haut degré de flexibilité en termes de superposition et de transfert de motifs. L'architecture unitaire de TEL ACT 12 a été créée pour utiliser au maximum l'équipement existant, y compris sa table de lithographie, ses composants optiques et ses fonctions de balisage. Grâce à son interface logicielle conviviale, il est plus facile pour les ingénieurs de créer des modèles électroniques complexes avec une précision sans précédent, y compris la vérification inverse pour une plus grande précision. TOKYO ELECTRON ACT12 dispose également d'une machine de commande de mouvement fiable et robuste qui fonctionne avec des niveaux élevés de vitesse et de précision. Son scanner à double faisceau permet une imagerie multicouche de précision, avec un balayage galvanométrique et un étage motorisé θ -z offrant une large bande de réglage pour aider à la conception optimale du motif. Ses composants de contrôle intégrés offrent un fonctionnement automatisé, sans soucis et la précision. Cet outil est conçu pour réduire le temps de cycle d'exposition et augmenter le débit. En outre, l'actif offre de puissantes fonctions d'alignement et d'optimisation, ainsi que des capacités supérieures de détection des défauts et améliore la fiabilité de la manipulation des photorésistances. TOKYO ELECTRON ACT 12 a été conçu pour offrir aux clients des performances et une fiabilité supérieures. Ce modèle doit connaître un grand succès dans les industries des semi-conducteurs et de l'électronique, offrant une uniformité d'exposition inégalée et un contrôle de dose d'exposition stable et répétable. Les utilisateurs peuvent s'attendre à un retour sur investissement rapide et à une productivité accrue. De plus, cet équipement est conçu pour assurer des rendements plus élevés, une meilleure couverture des étapes et des performances uniformes entre plaquettes.
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