Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #293630207 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12
ID: 293630207
Style Vintage: 2003
System 2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance conçu pour automatiser le processus de photolithographie. Cette technique est destinée à la réalisation de plaquettes de circuits intégrés en permettant à un masque d'expédier un motif précis sur un mince film de matériau, appelé photorésist. Les principales caractéristiques du système de photorésistance TEL ACT 12 comprennent une unité d'écriture sophistiquée du faisceau d'électrons et une machine de développement à sec sans contact de deuxième génération. L'outil d'écriture du faisceau d'électrons est utilisé pour créer les motifs sur le film photorésist. Pour ce faire, on focalise un faisceau d'électrons haute fréquence sur le film, ce qui permet l'exposition d'un motif haute résolution sur le substrat. Cela permet un haut degré de précision et de précision dans la production des motifs. L'actif comprend un ensemble programmable de paramètres d'écriture, permettant à l'utilisateur de contrôler divers aspects du processus d'exposition. Le modèle de développement sec sans contact de deuxième génération est particulièrement utile pour augmenter le débit et minimiser la survenue de distorsion de modèle. Cet équipement permet de transférer un motif haute résolution vers la résine photosensible lors du processus de développement. Pour ce faire, on utilise un liquide avec un solvant approprié pour dissoudre la photorésist du substrat, tandis que le motif est maintenu grâce à l'adhérence du solvant sur la photorésist. Le système photorésist TOKYO ELECTRON ACT12 dispose également d'une unité d'alignement de précision supérieure. Ceci permet de s'assurer que l'alignement du masque avec le substrat est précis, minimisant les risques d'erreurs dans le motif imprimé. En outre, la machine est équipée d'un outil OCR optique avancé, permettant la lecture et l'impression précises des données sur le substrat. En conclusion, l'actif photorésist ACT 12 est un modèle avancé de photolithographie automatisée. Il est conçu pour fournir des niveaux élevés de précision et de précision dans le processus de fabrication, et utilise des faisceaux électroniques avancés et des technologies de développement sans contact à sec pour maximiser l'efficacité. En outre, l'équipement d'alignement de précision supérieure et le système OCR optique assurent la précision des motifs imprimés, faisant de TOKYO ELECTRON ACT 12 un excellent choix pour tous vos besoins de fabrication de semi-conducteurs.
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