Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9042727 à vendre en France

ID: 9042727
Taille de la plaquette: 8"
(2) Coater / (4) Developer track system, 8" (2) BLK (2) CT (2) ADH (6) CPL (8) LHP (4) CHP (1) WEE IF CSB(R) Currently warehoused.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Il est composé de trois composants principaux : une chambre de type submersion, un système de cuisson à haute température et un auto-aligneur. L'unité est idéale pour gérer une multitude de processus photorésistants, allant du spin coat, four, pré-cuire, et processus de développement. La chambre de TEL ACT 12 est de type submersion en boucle fermée à commande pneumatique. Il est résistant à la pression et offre un environnement sûr pour le traitement des photorésistances. De plus, la buse de circulation assure une répartition uniforme de la solution de photorésist. Ceci élimine le besoin d'agitation mécanique. La machine de cuisson à haute température assure un chauffage uniforme des plaquettes. Il est alimenté par un seul dispositif de chauffage et utilise un étage unique, zone thermique de cuisson contrôlée par un cluster programmable. Ses réglages de température sont bien adaptés pour la cuisson à plusieurs étages de photorésist. L'auto-alignement mesure rapidement et aligne les photomasques à la bonne position. Il est équipé d'un anauto-aligneur entraîné par un moteur de précision. La vision à large champ utilisée minimise les erreurs et les désalignements. De plus, une commande automatique de position des plaquettes est utilisée pour s'assurer que le bon alignement a lieu. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON ACT12 convient aux procédés d'application des photorésistances. Sa chambre résistante à la pression permet un traitement sûr et à basse pression. De plus, son outil de cuisson à haute température peut fournir une cuisson à plusieurs étages. Enfin, son auto-alignement permet un alignement rapide et précis du masque à la plaquette. Ensemble, ces composants font de cet actif photorésist un choix idéal pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs sensibles.
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