Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9105213 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un système de photorésistance utilisé dans les procédés de lithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'une technique de dépôt en phase vapeur pour déposer une couche mince de matériau photorésist sur un substrat tel que du silicium ou du verre. La technologie fonctionne en combinant un monomère liquide, un sensibilisant, une charge solide et un diluant pour créer une suspension de matériau photorésist. Cette suspension est ensuite appliquée sur le substrat par un pulvérisateur ou par des techniques d'enrobage par spin. Une fois le revêtement de résine photosensible assuré, il est durci pour qu'il adhère au substrat. Une fois la couche de résine photosensible durcie et collée sur le substrat, le matériau est sensible au rayonnement. TEL ACT 12 utilise une impulsion courte d'énergie UV inférieure, typiquement sous la forme d'une source laser intégrée, pour provoquer l'exposition de la résine photosensible à la source de rayonnement activée. La fixation sous-jacente du substrat sert maintenant de masque pour déterminer la résolution d'imagerie du développement de la résistance. La photorésist est développée à l'aide d'un procédé de développement chimique qui change les zones solubles de la photorésist en zones insolubles. En outre, des photorésistes positifs et négatifs peuvent être utilisés en fonction des besoins du processus lithographique. TOKYO ELECTRON ACT12 est couramment utilisé dans le traitement des semi-conducteurs comme méthode de détermination des géométries et des caractéristiques des couches. Ceci permet le transfert d'images prédéfinies sur un semi-conducteur d'une manière reproductible avec précision et fiabilité. Il est également couramment utilisé pour les diagnostics de processus tels que la vérification de l'alignement des motifs pendant le processus de lithographie. Le processus ACT 12 est capable de contrôler avec précision la fidélité des motifs. Des images complexes peuvent être créées grâce à cette technologie, notamment lorsqu'elles sont couplées à une lithographie optique. Le procédé permet également de créer des films très minces qui résistent à l'exposition à divers types de rayonnements, de chaleur et de produits chimiques. De plus, le procédé fournit un système de photorésist respectueux de l'environnement en termes de réduction des émissions de composés organiques volatils (COV). En conclusion, TEL ACT12 photorésist système fournit un moyen fiable et efficace de créer des motifs lithographiques avec précision. Il est durable et résistant aux rayonnements, à la chaleur et aux produits chimiques, ce qui garantit la tact des modèles pendant le traitement et offre également une option respectueuse de l'environnement en termes d'émissions de COV.