Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9112122 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé pour des procédés avancés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce système utilise un aligneur masqué à haute vitesse et haute résolution pour assurer la fixation précise des photorésistances, des couches antireflets et d'autres matériaux utilisés pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Au cœur de TEL ACT 12 se trouve son alignement masqué haute vitesse et haute résolution. L'aligneur dispose d'un modulateur de lumière spatiale intégré (SLM) combiné à une lentille objective pour tracer avec précision les matériaux photorésistants avec une résolution d'exposition de 0,8 μ m ou plus. Le SLM contient des milliers d'éléments réfléchissants adressables individuellement qui peuvent moduler le faisceau laser pour acquérir rapidement et avec précision des images. Le tissage précis de la photorésist permet de définir les caractéristiques submicroniques de structures multicouches complexes. L'unité TOKYO ELECTRON ACT12 est également équipée d'un chargeur de plaquettes et d'un régulateur de température pour assurer une exposition uniforme de la couche de résine photosensible. Le chargeur de plaquettes maintient la plaquette sur une bande transporteuse motorisée et la positionne précisément dans la machine d'alignement. Le régulateur de température utilise une unité de refroidissement intégrée pour s'assurer que la résine photosensible est maintenue à la bonne température d'exposition. ACT12 dispose également d'un outil d'inspection automatique des défauts qui peut détecter des défauts dans la couche de résine photosensible tels que des trous d'épingle, des rayures et des vides. Les algorithmes de traitement avancés de l'outil analysent la couche de photorésist et identifient les défauts afin que les ingénieurs puissent rapidement et facilement les identifier et les traiter avant de poursuivre le processus de fabrication de l'appareil. Enfin, l'actif TOKYO ELECTRON ACT 12 est capable de manipuler une grande variété de matériaux photorésistants utilisés dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est également compatible avec une variété de processus d'exposition tels que l'écriture directe, étape et répétition, et étape & scan. Le modèle peut être utilisé pour un large éventail d'applications de dispositifs, tels que les dispositifs MEMS, et peut être intégré avec d'autres systèmes tels que la lithographie de faisceaux d'électrons pour une complexité supplémentaire de l'appareil.