Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9152987 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance conçu par TEL, un leader mondial dans les technologies de procédés semi-conducteurs. Ce système fournit aux fabricants une plate-forme puissante pour modeler avec précision les structures 3D les plus difficiles qui sont essentielles pour les appareils de nouvelle génération. L'unité TEL ACT 12 combine une technologie et des procédés de photolithographie de pointe avec une surveillance et un contrôle complets des photomasques et des substrats. La plate-forme est équipée de deux générateurs de motifs, dont un générateur de motifs maître et esclave. Le générateur maítre de motifs est équipé d'un ellipsomètre de 12 pouces qui permet l'imagerie de résistances avec une image haute fidélité. Les générateurs maítres et esclaves sont reliés à l'unité de traitement des données, qui assure un contrôle et une surveillance complets des expositions. L'unité de traitement des données est chargée de fournir les paramètres d'exposition souhaités au générateur de motifs, ainsi que de surveiller les paramètres d'exposition. TOKYO ELECTRON ACT12 a la capacité de produire des images avec une uniformité et une stabilité d'exposition supérieures. Cette plate-forme peut manipuler des photorésists avec une épaisseur aussi faible que 10nm, ce qui la rend adaptée à la fabrication de dispositifs avancés, tels que FinFET. L'architecture de la machine est également équipée d'une focalisation et d'un niveau automatisés (AFAL) et d'une focalisation fine, ce qui garantit un contraste d'image optimal. La plate-forme supporte des résistances non amplifiées chimiquement (NCA) et des processus standard de résistance humide, qui permettent une résolution et une précision élevées. Il permet également une exposition à une ou plusieurs couches, ainsi que la possibilité d'utiliser des matériaux de composants spin-on (SOC) pour des applications où des propriétés de résistance spéciales sont requises. TEL/TOKYO ELECTRON ACT12 dispose d'une interface utilisateur très intuitive, ce qui simplifie le fonctionnement de l'outil et réduit le temps d'installation nécessaire. Les fonctionnalités telles que le contrôle automatisé de la température du substrat et la surveillance de l'exposition donnent aux utilisateurs l'assurance que les paramètres d'exposition sont conformes aux spécifications. De plus, l'actif est équipé d'un modèle de détection de glitch qui capture et stocke des données relatives aux paramètres de substrat, de masque et d'exposition qui pourraient provoquer des schémas inacceptables. TEL ACT12 fournit aux fabricants une plate-forme photorésist fiable pour produire les micro-structures les plus exigeantes avec la plus grande précision. La combinaison de puissants générateurs de motifs, de systèmes automatisés et de surveillance des processus garantit la meilleure performance possible pour exposer des films jusqu'à 10nm d'épaisseur. Cet équipement est un excellent outil pour la fabrication avancée de semi-conducteurs, car il offre une grande précision et de contrôle.