Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9163162 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 matériel de photorésistance est un système semi-automatique développé pour le traitement de substrat. Il est utilisé dans les procédés de fabrication de dispositifs LED tels que la fixation de masque, la formation de trous de contact, le nettoyage post-gravure et autres. Il est principalement conçu pour des applications telles que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la fabrication de panneaux LCD, la fabrication de micro-films, la fabrication de dispositifs médicaux et la fabrication d'éléments optiques. TEL ACT 12 est conçu pour offrir un revêtement photorésistant très uniforme sur des substrats tels que le verre, le plastique et le métal. Il est équipé d'une tête de processus haute vitesse qui dispose d'une technologie de revêtement précise ainsi que d'une précision de processus multi-rangées. La machine offre également d'excellentes performances de traitement humide et d'unités de cuisson pré-cuisson et post-exposition. Cet outil dispose de systèmes de réglage de paramètres en temps réel extrêmement flexibles avec des contrôles de température et d'atmosphère de haute précision. Le substrat est chauffé jusqu'à une température déterminée pour un revêtement de résistance précis sur la plaquette. Le mandrin sous vide est utilisé pour maintenir la plaquette affleurant avec l'optique de revêtement. Ceci permet de mesurer la variation du revêtement de sorte que le film de revêtement puisse être maintenu uniforme. Le fluide de revêtement est ensuite appliqué à partir d'un enrobeur de filage et est séché par une roue de spin-off à grande vitesse sur une épaisseur uniforme de film mince. L'actif peut appliquer la résine photosensible avec une grande précision et uniformité pour une variété de diamètres de plaquettes et d'épaisseur jusqu'à 80mm. Un procédé de cuisson post-exposition suit le procédé de masquage photo pour favoriser une bonne adhérence du film de résistance à la plaquette et également minimiser la distorsion de résistance pendant le développement et la gravure. La photorésist est optiquement conçue pour fournir une sensibilité plus élevée avec une faible dose d'exposition de fond pour les processus de photolithographie. La plaquette est exposée à travers le masque photo avec le modèle TOKYO ELECTRON ACT12 pour exposer les caractéristiques souhaitées. Cela se produit dans les périodes de microseconde pour la courte durée d'exposition et le traitement à haute résolution. La résine photosensible est ensuite développée dans un révélateur pour exposer les parties non compatibles de la plaquette suivie d'une gravure. Les pièces développées sont ensuite enlevées par une roue de dérivation. La résine est alors normalement dépouillée à l'aide de plasmas, de produits chimiques humides ou de méthodes d'élimination laser pour un dosage précis. L'équipement de photorésistance TEL ACT12 offre une excellente homogénéité de photolithographie et de traitement, ce qui améliore le rendement de fabrication des dispositifs LED. Ce système offre également une flexibilité et un contrôle précis dans les processus de fixation des plaquettes, ce qui en fait une solution idéale pour la fabrication de différents types de dispositifs.