Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9164503 à vendre en France
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ID: 9164503
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
DUV coater / developer, 8"
Dual block track for S204
Utilized with Nikon S204 Scanner Exposure Tool
iUSC SECSI, SECSII, HSMS, & GEM Interface Compatibility
4 Blocks Interfaced: Cassette-2 Process Blocks-Scanner Interface
4 Wafer Transfer Robot Arms: Cassette-2 Process Blocks-Scanner Interface
Control Module on Cassette End-Station (CES)
Interface Block:
Single-pincette shared wafer transfer with centering guides
Standard wafer arm and interface panel to accommodate stepper/scanner
Interface includes a CPL for insuring consistent wafer temps into the stepper/scanner
2 Coaters (COT):
4 resist nozzles with temperature control
16 layer resist and solvent filters
RRC Pumps
4L or 1L Nowpak capability
SS 0.3mm diameter side rinse nozzle with flow meter
2 SS 0.3mm diameter back rinse nozzles
4 Developers (DEV):
2 “H” nozzles with temperature control per cup
16 layer developer filter
Bulk-FSI system for developer
2 Adhesion Process Stations (ADH):
Half sealed chamber with dispersion plate for HMDS
6 Chill Plate Process Stations with temperature control (CPL)
1 Transfer Chill Plate (TCP)
8 Low Temperature Hot Plate Process Stations with temperature control (LHP)
4 Chilling Hot Plate Process Stations (CHP)
1 Wafer Edge Exposure Process Station (WEE)
DUV illumination monitor on lamp housing
Uses a 250W ultra pressure Mercury lamp with 5x4mm illumination pattern
Subcomponents:
Fluid Temperature Controller
Temperature & Humidity Controller - 2x
Chemical Cabinet
AC Power Box
2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé pour la réalisation de circuits photolithographiques bidimensionnels. Le système photorésist comprend une source lumineuse, une optique et un réticule, qui masque ou bloque certaines zones d'une plaquette dans la réalisation de circuits intégrés. La source lumineuse utilisée pour TEL ACT 12 est un large spectre de lumière ultraviolette (UV) qui est passé à travers l'optique puis sur le réticule, où les motifs de circuit sont formés. La lumière UV interagit avec la couche de revêtement chimique sur la plaquette, qui est ensuite utilisée dans la réalisation de différents types de circuits intégrés. Le composant optique est composé de plusieurs miroirs, lentilles et ouvertures. Les miroirs guident le faisceau lumineux dans le réticule et sur la plaquette, et les lentilles contrôlent la convergence et la divergence du faisceau. Les ouvertures contrôlent la taille et la forme du faisceau, ainsi que la quantité de lumière qui est transmise. Le réticule est la composante de coeur de l'unité de photorésistance et sert à masquer certaines parties de la plaquette de la source lumineuse. Il est conçu de manière à pouvoir exposer efficacement certaines zones de la plaquette tout en bloquant d'autres zones. Une fois que la plaquette est exposée à la source lumineuse, certaines zones de la plaquette sont gravées, d'où le motif de circuit désiré. La machine de photorésistance TOKYO ELECTRON ACT12 est un composant clé dans la production de circuits intégrés. Il fournit une méthode fiable et efficace de structurer la plaquette selon la conception souhaitée, ce qui donne des composants et des circuits de haute qualité et fiables. L'outil peut être utilisé pour diverses conceptions de circuits avec un haut degré de précision, permettant des résultats précis et reproductibles lors de la réalisation de circuits intégrés.
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