Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9187391 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance développé par TEL pour la lithographie et la gravure dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est un système avancé de lithographie par faisceau électronique d'assistance ionique (IAEB) conçu pour fournir des performances de mesure et de gravure de haute précision pour des structures de circuits ultra-minuscules jusqu'à moins de 10 nanomètres. L'unité présente une innovation de pointe dans un certain nombre de domaines, y compris un déflecteur Faraday de 7e génération très sensible, une cartographie et un contrôle améliorés des faisceaux pour le réglage fin de la focale et une imagerie haute résolution robuste, et des éléments optiques à double faisceau avancés pour une commutation continue entre les processus de lithographie et de gravure. Cette combinaison permet un tissage de haute qualité qui peut même s'attaquer aux structures de circuits tridimensionnels. TEL ACT 12 dispose également de systèmes de métrologie avancés pour assurer l'uniformité des processus sur l'ensemble de la plaquette. Cela comprend une cartographie haute résolution pour déterminer le profil de résistance sur la plaquette, et une évaluation de haute précision des effets du processus. En outre, la machine assure l'inspection automatique des défauts physiques et la vérification en temps réel des propriétés de résistance à différentes étapes du processus. Les systèmes d'imagerie haute résolution et de métrologie avancée permettent à TOKYO ELECTRON ACT12 d'offrir un niveau élevé de précision et de facilité de gestion des défauts. Cela comprend la réduction des défauts sur les étapes avant et arrière du processus, et la cohérence de l'épaisseur de la couche et de la largeur de ligne sur l'ensemble de la plaquette. En outre, l'outil est équipé d'une gamme d'outils pour optimiser et contrôler l'exposition et la dose, le courant du faisceau, la déviation et la trajectoire, ainsi que pour compenser des facteurs tels que la rugosité des bords de ligne et les raccourcis et les ouvertures. Il dispose également d'une fiabilité améliorée avec des temps d'arrêt réduits, et des capacités de traitement parallèles de pointe pour un débit plus rapide. Au total, TEL ACT12 est une innovation de pointe dans le développement d'actifs photorésistants, et fournit une plate-forme idéale pour les processus de lithographie et de gravure les plus performants dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses caractéristiques de pointe, sa facilité de fonctionnement et sa grande précision en font un choix de modèle puissant.