Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9187393 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement photorésist de haute performance conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Il utilise l'exposition induite par laser à des motifs de gravure sur un substrat de plaquette pour la réalisation de dispositifs électroniques à semi-conducteurs. Le système est équipé d'une unité d'imagerie avancée qui peut créer des motifs très précis, avec des capacités d'exposition de 0,1 μ m ou mieux. La machine est basée sur une source laser brevetée, une tête laser optique de 10 W, qui permet d'effectuer les expositions rapidement et avec précision. La source laser est un outil laser à haute énergie, stabilisé en longueur d'onde, qui produit des caractères, des lignes et des géométries avec une grande précision et une résolution irréprochable en très peu de temps. TEL ACT 12 dispose également d'un photomasque de 12 pouces qui permet une plus grande gamme d'options et d'expositions photorésistantes. Il est équipé d'un motif de masque carré de sept pouces qui est utilisé pour écrire le circuit à la plaquette. L'actif d'imagerie utilise une technique unique « Template-driven » qui permet la fabrication rapide de formes et de modèles très complexes sans intervention humaine. Le modèle a une intensité de masque réglable de sorte que la gravure peut être contrôlée avec précision et précision sans avoir besoin de sources de lumière supplémentaires. En plus de l'équipement d'imagerie avancé et de la source laser, le système intègre un contrôle automatisé des processus qui peut être programmé pour produire un rendement élevé de circuits fiables. L'alignement de la plaquette est précis et la précision de résolution est maintenue de façon constante. L'unité comprend également une station de nettoyage des plaquettes et un écran plat pour contrôler et surveiller le processus d'imagerie. TOKYO ELECTRON ACT12 est une machine avancée de fabrication de semi-conducteurs qui est conçue pour produire des circuits très précis et fiables en peu de temps. Son outil d'imagerie haute performance et haute précision permet une gravure cohérente et fiable des motifs sur les substrats de plaquettes, offrant un excellent choix pour la fabrication de dispositifs électroniques à semi-conducteurs sophistiqués et performants.