Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9216584 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement photorésistant de haute performance développé par TEL Ltd. Il utilise la lumière UV profonde pour l'exposition à la lithographie, qui est ensuite traitée par l'alignement et l'assemblage optique du système. Il en résulte des temps d'exposition plus rapides avec une imagerie à plus haute résolution et une uniformité de processus, en particulier lorsqu'il est utilisé en combinaison avec des unités d'exposition de haut de gamme. L'unité de photorésistance utilise plusieurs couches de matériau de photorésistance pour former le motif désiré en absorbant et en éjectant sélectivement la lumière dans la couche. Dans TEL ACT 12, une photorésist formant film liquide joue le rôle de première couche de l'empilement de résistances à plusieurs niveaux. Ce film est ensuite exposé à la lumière pour photographier les chaînes de polymères moléculaires à l'intérieur de la résine photosensible. Ce procédé d'exposition préserve le motif désiré tout en masquant les éléments du film non exposés à la lumière. Une fois exposée, la couche de résine photosensible subit une réaction chimique avec le matériau d'exposition secondaire. Le matériau d'exposition, généralement un faisceau d'électrons, sert d'agent de gravure pour affiner les motifs de la couche de résine photosensible. Ce processus permet une imagerie de résolution plus fine, un meilleur contrôle de gravure, et un degré plus élevé de contrôle sur la profondeur de la gravure. De plus, les faisceaux d'électrons peuvent graver de façon précise et rapide plusieurs couches de photorésistes simultanément. Enfin, le processus de développement de la couche de résine photosensible est complété par un rinçage post-développement utilisant une chimie développeur. Ce rinçage élimine les zones restantes non exposées de la couche de résine photosensible. Ce processus post-développement ne laisse effectivement que le motif désiré dans la couche de résine photosensible. En plus de sa résolution accrue, les processus d'exposition et de gravure TOKYO ELECTRON ACT12 offrent une gamme d'exposition plus large et une précision d'exposition améliorée. En conclusion, TEL ACT12 est une photorésist haute performance développée par TOKYO ELECTRON Ltd. Il est capable de temps d'exposition plus rapide avec l'imagerie à plus haute résolution et l'uniformité du processus. L'outil utilise une pile de résistances à plusieurs niveaux en combinaison avec la lumière UV profonde, l'exposition au faisceau d'électrons et la chimie du développeur post-développement pour fabriquer et développer avec précision et rapidement le motif désiré dans la couche de photorésist. De plus, cet actif photorésist offre une plus grande plage d'exposition et une meilleure précision d'exposition.