Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9235799 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance couramment utilisé dans les procédés de microfabrication, tels que la photolithographie. Il utilise une photorésist liquide qui est appliquée sur le substrat puis exposée à une source de lumière UV. La lumière UV fait réagir chimiquement le photorésist, le durcissant dans les zones exposées à la lumière et laissant les zones non exposées plus douces. Ce procédé de création d'une surface structurée par durcissement sélectif et adoucissement de la résine photosensible est connu sous le nom de « formation d'image ». TEL ACT 12 est un système très avancé qui utilise une méthode avancée de spin-coat/spray pour appliquer uniformément la résine photosensible. L'unité comprend un processeur principal, un wafer heater, et une machine de pulvérisation multiple avec une tête de spin-coat/spray. Le processeur principal contrôle la température et l'humidité de l'outil pendant le processus spin-coat/spray. Le formage de l'image est complété à l'aide de la boîte d'exposition de TOKYO ELECTRON ACT12. Cette boîte contient à la fois un actif d'exposition projetable et sans masque qui utilise des optiques purgées à l'azote pour réduire toute pression de vapeur causée par la chaleur de la lampe. Le processus de formation de l'image est également facilité par le modèle de plaque réflecteur ACT 12, qui réfléchit la lumière entre la boîte d'exposition et le substrat pour assurer l'exposition uniforme du substrat exposé. Après la mise en forme complète de l'image, TOKYO ELECTRON ACT 12 a la capacité de développer le substrat dans un environnement de salle blanche. Ceci est fait à l'aide d'un pulvérisateur spécialisé qui applique efficacement le développeur et élimine la résine photosensible non exposée. L'équipement de développement de TEL ACT12 a également la capacité de détecter rapidement et avec précision les défauts présents sur la plaquette. Le système TEL/TOKYO ELECTRON ACT12 est une unité efficace et fiable pour les processus de photolithographie. Sa technologie avancée de spin coat et de pulvérisation assure une application uniforme de la résine photosensible sur le substrat, et sa machine d'exposition projetable et sans masque assure une exposition uniforme du substrat. De plus, son outil de développement est capable de détecter rapidement et avec précision les défauts présents sur le substrat.