Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9239681 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12
ID: 9239681
Coater Track configuration 1: Coat cup (2) Developer cup ADH Track configuration 2: Resist reduction: RRC Dev nozzle: H Nozzle Resist pump: 10ml RDS Oven configuration: (2) PHP (4) CPL (5) LHP Track chemicals Resist supply: Gallon bottle, coat bottle Thinner: OK73.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour la production de semi-conducteurs de pointe. Le système intègre deux éléments clés du processus de photolithographie ; le spin coater et le spray coater. Un enrobeur de spin applique une photorésist sur la plaquette en couche uniforme, tandis qu'un enrobeur de spray projette la photorésist sur les zones de la plaquette désignées par le motif de résist. Avec un contrôle précis de l'application de la résine photosensible, l'unité TEL ACT 12 permet une production plus rapide de circuits complexes avec des rendements plus élevés. La machine TOKYO ELECTRON ACT12 comporte deux composants principaux : le spin coater et le spray coater. Le spin coater utilise des têtes de revêtement de haute précision pour délivrer du gaz photorésist à la surface de la plaquette dans un motif uniforme, assurant que la résine est appliquée uniformément. De plus, l'enrobeur est capable de filer à des vitesses variables pour assurer une répartition uniforme sur des plaquettes de forme irrégulière et courbes. Le vaporisateur projette de la résine photosensible sur la plaquette aux endroits indiqués par le motif de résistance. Ce vaporisateur est équipé d'une buse intégrée qui est capable de produire un motif de pulvérisation fine et même gouttelette qui peut déposer des quantités précises de résine photosensible aux endroits souhaités. TEL ACT12 est également équipé d'une variété de fonctionnalités conçues pour rendre le processus de photolithographie plus rapide et plus efficace. La précision mécanique de la couche de pulvérisation et de la couche de pulvérisation permet de traiter un plus grand nombre de plaquettes en un seul cycle ; jusqu'à 15 plaquettes par cycle. De plus, l'actif dispose également d'un modèle avancé pour contrôler la température et l'humidité de la résistance pendant l'application, réduisant le risque de frottement ou de mauvais éclairage. Enfin, l'équipement comprend un système de surveillance informatisé capable de suivre en permanence les résultats de chaque cycle, permettant aux utilisateurs de prédire avec précision les résultats de chaque cycle et de les ajuster au besoin. L'unité TEL/TOKYO ELECTRON ACT12 est un outil idéal pour la production de semi-conducteurs à haut volume. La précision du spin coater et du spray coater, ainsi que les fonctionnalités innovantes conçues pour surveiller le processus de photolithographie, font ACT 12 une machine photorésist puissante et fiable.
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