Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9250635 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance qui utilise une technologie de pointe afin de créer des motifs lithographiques de haute qualité sur des circuits intégrés à semi-conducteurs. Ce système, également connu sous le nom d'unité de photolithographie avancée, est conçu pour permettre la réalisation de motifs plus petits à très haut débit. La machine utilise des photoémetteurs avancés qui sont refroidis à des températures extrêmement basses afin d'améliorer l'efficacité de la photoémission. Ces photoémetteurs peuvent être utilisés pour éclairer une couche de plaquette avec ultraviolet ou autre faisceau lumineux, qui réagit alors avec un revêtement chimique sur la plaquette. Les faisceaux lumineux sont produits à l'aide de diodes laser de haute puissance et leurs sorties sont contrôlées à l'aide d'une optique avancée. Les photoémetteurs permettent également une focalisation très serrée, ce qui permet d'atteindre de très petites tailles de caractéristiques en couplant avec les techniques de masquage appropriées. L'outil TEL ACT 12 utilise également des lentilles avancées de haute qualité fabriquées avec des matériaux et une expertise supérieurs. Ces lentilles sont conçues de manière à permettre une imagerie extrêmement précise, ce qui est important pour la réalisation de microféatures complexes. Les lentilles permettent également un champ de vision très large et des distances de travail extrêmement longues sans provoquer de distorsion optique ou d'images fantômes. En plus de cela, l'actif peut également être utilisé en combinaison avec des procédés avancés de lithographie humide ou sèche, qui permettent de produire des caractéristiques encore plus petites. Pour ce faire, on utilise un mélange de résistances innovantes, de lisières photorésistantes, de traitements chimiques et d'autres techniques afin de transférer efficacement des motifs sur la plaquette. Enfin, le modèle TOKYO ELECTRON ACT12 est extrêmement fiable et précis, utilisant des sous-systèmes avancés qui lui permettent de répéter avec précision des motifs sur différentes plaquettes de manière fiable. Ceci, avec l'utilisation de l'optique avancée et d'autres fonctionnalités, en fait l'un des systèmes de photolithographie les plus avancés disponibles, parfait pour la création de circuits intégrés complexes.