Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9270889 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé par les principales entreprises de microélectronique dans la production de circuits intégrés et d'autres composants électroniques sensibles. C'est un système de lithographie polyvalent et de haute précision qui utilise des rayonnements électromagnétiques tels que la lumière ultraviolette ou des électrons pour imprimer un motif sur un matériau photosensible. TEL ACT 12 utilise un mécanisme sophistiqué d'étages mécaniques et de plaques de vide pour produire de fines résolutions et une profondeur de contrôle de terrain. Un étage mécanique précis mobile à deux axes est utilisé pour aligner et déplacer la plaque photorésistante. Sa précision garantit des résultats de haute qualité, que la plaquette soit grande ou petite. L'étage peut se déplacer dans les directions X et Y et peut atteindre une précision de 0,0001 micron. Une plaque à vide maintient alors le substrat en place pendant l'opération d'imagerie, de sorte que la plaquette ne se déplace pas pendant le processus d'imagerie. La photorésist est appliquée à l'aide d'une machine de chimie automatisée, qui dispense précisément la résistance requise dans des motifs prédéterminés sur le substrat. Cette résistance protège le substrat lors du processus de photolithographie. Le processus de distribution est contrôlé par un ordinateur pour assurer l'exactitude, la répétabilité et l'utilisation efficace des produits chimiques. L'outil d'imagerie consiste en un outil de lithographie de type projection étanche au vide qui utilise la lumière ultra-violette pour transférer le motif d'un masque sur la résine photosensible. Pour les grands substrats, l'outil est capable d'une précision minimale de 11 µm et d'une résolution de 0,35 µm. Il est conçu pour une production à haut débit. TOKYO ELECTRON ACT12 dispose également d'une analyse et d'une détection automatisées des défauts. Cette fonctionnalité utilise des algorithmes logiciels sophistiqués pour repérer les défauts dans le modèle, permettant aux fabricants d'identifier et de corriger les erreurs rapidement et efficacement. TEL Photoresist ACT 12 est conçu pour fournir aux fabricants des résultats de lithographie et d'imagerie de haute précision et reproductibles. Cela garantit le plus haut niveau de précision et de répétabilité dans la production et la fabrication de composants microélectroniques.