Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9271250 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé pour la gravure, le dépôt et le nettoyage dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. C'est une technique avancée qui permet de contrôler avec précision la gravure des couches minces sur une surface. TEL ACT 12 permet aux utilisateurs de tracer, tracer et graver avec précision des microfeatures à haute résolution, à haut rapport d'aspect et avec des résidus photorésistants minimes. TOKYO ELECTRON ACT12 se compose d'un cadre d'outils, d'une console d'opération, d'une unité de commande d'ouverture spécialisée et d'un système d'irradiation laser. Les deux premiers composants permettent aux utilisateurs de contrôler l'unité ainsi que de surveiller et d'ajuster les paramètres en conséquence. L'unité spécialisée de contrôle de l'ouverture (SACU) est chargée d'assurer la résolution la plus élevée de la microstructure. Il y parvient en utilisant un faisceau laser, un obturateur et une optique étroitement intégrés. En ajustant la taille du faisceau laser, la forme du faisceau, la taille et la position de la tache focale, la machine est en mesure de générer le motif requis avec précision avec les plus petites tailles de caractéristiques possibles. L'outil d'irradiation laser est conçu pour graver les microferatures à haut rapport d'aspect efficacement et avec des résidus photorésistants minimes. Pour ce faire, on combine un générateur de motifs laser commandé par ordinateur et un actif optique laser modulé à l'extérieur. TEL ACT12 est conçu pour exécuter différents processus. Le procédé de dépôt permet aux utilisateurs de déposer des films minces avec les caractéristiques souhaitées sur une surface tandis que le procédé de gravure aide à graver avec précision les motifs sur le substrat. Le modèle peut également effectuer un processus de désactivation (pour nettoyer la surface du substrat) après le processus de gravure. TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement photorésist incroyablement polyvalent. Il est capable de créer des caractéristiques ultra-fines avec la compatibilité à une large gamme de substrats différents tout en obtenant des résultats exceptionnels. Ces caractéristiques, associées à une opération simple axée sur l'utilisateur, en font un choix idéal pour la gravure, le dépôt et le nettoyage dans l'industrie de la microfabrication.