Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9281479 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé dans le traitement de substrat semi-conducteur. Il est capable de réaliser une grande variété de processus, y compris la pulvérisation, l'implantation ionique, le nettoyage des plaquettes, la gravure, et plus encore. Le système utilise une réaction chimique activée par la lumière pour façonner la surface de la plaquette. Il est conçu pour permettre la réalisation de dispositifs à couches minces très précis avec une haute densité de caractéristiques. TEL ACT 12 combine les avantages de la photolithographie et de la gravure plasma. La photolithographie est une technique pour modeler la surface d'un matériau en l'exposant à une source de rayonnement. Le rayonnement provoque des changements chimiques dans la zone exposée, permettant la fabrication de motifs fins. La gravure par plasma est un procédé dans lequel un environnement plasmatique est utilisé pour graver la surface du matériau cible. La combinaison de ces deux procédés permet à TOKYO ELECTRON ACT12 de créer des caractéristiques complexes à l'échelle du nanomètre avec une précision et une précision élevées. La couche de résine photosensible d'ACT 12 est appliquée sur la surface de la plaquette et exposée à un masque contenant le motif désiré. Une fois le masque retiré, une source lumineuse distincte (généralement UV ou faisceau E) est utilisée pour l'imagerie directe du motif. Un revêtement spécial est alors utilisé pour protéger la couche de résine photosensible et permettre une gravure contrôlée de la plaquette. Ensuite, la machine est chauffée à haute température pour activer la réaction chimique de la couche photorésistante exposée. La réaction de brassage conduit à un mince film de photorésist qui est laissé sur la plaquette. La résine photosensible restante peut alors être éliminée avec un solvant approprié. Enfin, l'outil peut être utilisé pour l'un quelconque des procédés mentionnés précédemment, tels que la pulvérisation ou l'implantation ionique, pour créer le motif ou dispositif désiré. L'ensemble du processus est contrôlé avec l'actif logiciel fourni par TOKYO ELECTRON ACT 12, qui assure le contrôle de qualité tout au long du processus. En conclusion, TEL ACT12 est un modèle de photorésist avancé qui peut créer des caractéristiques très précises et complexes à l'échelle du nanomètre. Sa combinaison de photolithographie et de gravure plasma permet la production de dispositifs sensibles pour une gamme d'applications. L'équipement logiciel fourni par le système permet un contrôle complet du processus et assure le contrôle de la qualité tout au long.