Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9289936 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12
ID: 9289936
System.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance de TEL Limited. Ce système offre une production rapide de dispositifs de microélectronique et d'autres composants sans compromettre la précision. L'unité utilise un matériau photorésist liquide, qui est appliqué sur une surface de plaquette avec un procédé de spin-coating. Cette application est très précise, utilisant un algorithme de contrôle avancé qui compense les erreurs de position. Une fois la résine photosensible appliquée, TEL ACT 12 applique une source de lumière ultraviolette sur la plaquette. Cette lumière est précisément calibrée et peut être réglée sur une longueur d'onde, un profil de faisceau et une intensité spécifiques. Avec cette lumière, le matériau photorésist est exposé à un motif approprié de lumière et de chaleur, permettant de créer des caractéristiques détaillées dans la photorésist. Une fois la résine photosensible exposée, la pièce est placée dans une chambre de procédé secondaire. Ici, la résine photosensible est exposée à un processus de cuisson post-exposition. Cela aide à repositionner le matériau dans la forme désirée et permet de permettre aux caractéristiques de la résine photosensible de durcir et de devenir plus durable. Enfin, la pièce peut être placée dans un bain d'une solution de révélateur. Ce bain enlève ce matériau indésirable où la lumière et la chaleur n'ont pas été appliquées, laissant derrière le motif des caractéristiques fixées dans la résine photosensible. Après cela, une deuxième solution de développement peut être utilisée pour enlever le reste du matériau, y compris la résine photosensible, complétant le processus. TOKYO ELECTRON ACT12 est une machine de photorésistance de précision de TOKYO ELECTRON Limited, conçue pour le balisage précis de composants microélectroniques. Cet outil utilise un procédé de revêtement de spin, une lumière ultraviolette de précision, un four post-exposition et un bain de développement pour créer des caractéristiques détaillées dans la résine photosensible. Cet atout est efficace pour la production rapide de composants microélectroniques sans compromettre la précision.
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