Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9290880 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12
ID: 9290880
Taille de la plaquette: 12"
(4) Coater / (4) Developer system, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance conçu pour la microfabrication. Le système est une technologie avancée de traitement de résistance photo qui permet aux clients de produire des dispositifs semi-conducteurs avec une précision, une répétabilité et une vitesse inégalées. Il se compose de plusieurs composants dont une source UV, un contrôle automatique de l'exposition et une unité d'alignement automatique. La source UV est une lampe à arc au xénon à haute énergie qui émet de la lumière UV qui est utilisée pour exposer le motif sur la résine photosensible. La lumière émise est focalisée à travers une lentille miroir et dirigée sur la plaquette. Le régulateur automatique d'exposition surveille et ajuste l'intensité lumineuse pour assurer une exposition cohérente. La machine d'alignement automatique utilise un scanner laser avancé pour détecter le motif sur la résine photosensible. Le scanner calcule alors la position et l'orientation de la résine photosensible par rapport au masque, et ajuste l'alignement en conséquence. Cela garantit que le motif exposé sur la résine photosensible est précis et répétable. Une fois l'exposition terminée, la résine photosensible est développée. L'acétone est habituellement utilisée pour éliminer les parties exposées de la résine photosensible, laissant un motif. Ce motif est ensuite utilisé comme modèle de gravure du substrat. TEL ACT 12 est un outil de photorésistance puissant et précis qui permet de traiter de petits appareils avec des ensembles de fonctionnalités complexes. Avec des fonctionnalités telles que les sources UV, le contrôle automatique de l'exposition et l'actif d'alignement automatique, il permet aux clients de produire des dispositifs semi-conducteurs avec une précision et une répétabilité inégalées. De plus, le modèle est compatible avec une grande variété de substrats et de résistances.
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