Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9313699 à vendre en France
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ID: 9313699
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2004
System, 12"
Wafer type: Notch
Right to left
Loading configuration: (4) Loaders
Cassette type: FOUP
Main controller missing
Main system:
Mainframe with system controller
(4) Cassettes
(25) Slots
Coater unit (2-1, 2-2 Modules):
(4) Dispense nozzles with temperature controlled lines
RDS Pump
PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems
Thinner supply: CCSS
Programmable side rinse:
(4) PR Nozzles
(8) Bottles: (2) Bottles / (2) Nozzles
BCT Unit (2-3,2-4 Modules):
(4) Dispense nozzles with temperature controlled line
RDS Pump
PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for each unit
Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems
Thinner supply: CCSS Canister tank
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Modules):
NLD Nozzle / Unit
(2) System nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer system: 3-Liter (2) buffer tank systems
Developer supply: CCSS
Developer temperature control system
ASML I/F Wafer stage
(2) Adhesion units (ADH):
Sealing closed chamber with Built-in hot plate
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(4) Low temperature Hot Plates (LHP)
(3) High temperature Hot Plates (HHP)
(9) Chill plates (TCP)
(12) Precision Hot Plates (PHP)
(2) TRS Units
(2) Wafer Edge Exposure (WEE) Units
(2) Temperature Control Units (TCU)
OEM Type
Temperature control units (TCU) MFC controller
Chemical cabinets:
Cabinet 1: HNDS And solvent cabinet
Cabinet 2: DEV Solution chemical cabinet
Missing parts:
Main controller
T and H Controller
AC Power supply: 200/220 VAC, 668 A (Full-load Ampere)
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de traitement de photorésistance conçu par TEL. Il est utilisé pour les procédés de fabrication de microfabrication et de dispositifs semi-conducteurs. Le système utilise un procédé de photolithographie pour modeler les caractéristiques souhaitées sur une plaquette et les graver dans une couche métallique. Ce procédé consiste à exposer au motif une couche de résine photosensible, sensible à la lumière UV. Les zones exposées à la lumière deviennent dures, tandis que les zones restantes restent solubles. Les zones dures servent de masque de gravure, et la plaquette est gravée à l'aide du motif formé par la couche de résine photosensible. TEL ACT 12 fournit un processus de formation de patrons précis et reproductible. Il a une haute résolution de 0,25 micron, et une taille de champ de 5mm. L'unité peut également effectuer des cycles d'exposition à double niveau en une seule passe, ce qui permet de former des motifs complexes. La machine est conçue avec la modularité et la flexibilité à l'esprit, et offre une gamme de fonctionnalités facultatives qui peuvent être ajoutées à l'outil pour améliorer sa fonctionnalité. De plus, TOKYO ELECTRON ACT12 a un temps d'exposition rapide, avec un temps d'exposition de seulement 2 secondes par plaquette. Ceci permet de traiter un débit élevé de plaquettes en peu de temps. TOKYO ELECTRON ACT 12 utilise également la technologie de balayage linéaire pour assurer une dose uniforme de lumière UV à travers le substrat. Cela permet de réaliser des caractéristiques plus lisses et plus précises. En outre, l'actif dispose d'un ordinateur de bord qui contient tous les paramètres d'exposition pertinents et peut être personnalisé pour répondre aux besoins de l'utilisateur. Dans l'ensemble, ACT 12 est un outil fiable et efficace pour les procédés de fabrication de microfabrication et de dispositifs semi-conducteurs. Sa haute résolution, son temps d'exposition rapide, son débit élevé, sa conception flexible et son balayage linéaire UV en font un choix idéal pour les professionnels de l'industrie.
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