Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9359297 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance conçu pour la production de photomasques de haute précision qui présente un débit élevé et un dosage très précis des couches critiques. Il s'agit d'un système de lithographie automatisé basé sur un processus de lithographie en mode de transmission programmable (TML) à haute assurance. TEL ACT 12 utilise une unité de balayage quad-colonne pour le déplacement X-Y de l'étage wafer, et des étages linéaires et verticaux de haute précision pour le positionnement du substrat dans la direction Z. Cette combinaison d'axes permet à la machine d'être utilisée pour des processus photorésistants de pré-cuisson à post-exposition. De plus, TOKYO ELECTRON ACT12 met en œuvre plusieurs technologies de pointe pour réaliser des impressions stables et à haute résolution. Un outil de « couplage par faisceau de colonnes » assure une répartition uniforme de la lumière laser générée grâce à un contrôle indépendant de l'axe d'entraînement. Cet attribut aide à maintenir une imagerie uniforme dans tout le champ de vision. De plus, l'actif comporte quatre mécanismes indépendants d'alignement des faisceaux qui minimisent les aberrations résultant des fluctuations du chemin optique et des asymétries de coordonnées des plaquettes. Deux scanners 6KS sont installés pour le balayage simultané des plaquettes. Cela réduit le rapport d'aspect à un maximum de 10, ce qui permet un débit de surface élevé. De plus, le modèle utilise un étage de balayage vertical de haute précision, dans la direction Z, pour permettre le réglage fin du plan de la plaquette qui aide à maintenir l'uniformité de la dose d'exposition à travers la plaquette. Il met également en œuvre un mécanisme d'asservissement d'encodeur de haute précision pour minimiser les erreurs d'imagerie, ce qui signifie que des prérequis très précis et fiables sont réalisés. De plus, TEL/TOKYO ELECTRON ACT12 obtient une excellente répétabilité des plaquettes par rapport aux plaquettes grâce à la technologie unique de TEL « PHASE at All Directions (PARaD) ». Grâce à cette technologie brevetée, même si les plaquettes sont chacune légèrement différentes en planarité, les mêmes conditions d'imagerie peuvent être appliquées à tous. En conclusion, ACT 12 est un équipement de lithographie photorésistante haut de gamme qui profite de plusieurs technologies de pointe pour fournir un débit élevé, un dosage très précis et une excellente répétabilité des plaquettes. Avec une combinaison d'étapes très précises pour le mouvement du substrat et des mécanismes indépendants d'alignement du faisceau, il est en mesure de produire d'excellents résultats dans les processus de production de photomasques.