Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9364744 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9364744
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2004
(4) Coater / (4) Developer system, 12"
Wafer type: Notch
Right to left
Loading configuration: (3) Uni cassettes
Cassette type: FOUP
Inline
CSB
PRB1
PRB2
IFB
AC Power box
(2) Chemical boxes
Main controller
25-Slots
Coater unit (2-1, 2-2 Modules):
(4) Dispense nozzles with temperature controller lines
RDS Pump
PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves
Manual drain
Programmable side rinse: CCSS Thinner supply
BCT Unit (2-3,2-4 Modules):
(2) Dispense nozzles with temperature controller line
RDS Pump
PR Suck-back valve: (4) Auto suck-back valves
Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems
Manual drain
Programmable side rinse:
Thinner supply: CCSS
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Modules):
NLD Nozzle / Unit
(2) Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer system: 3-Liter (2) buffer tank systems
Developer supply: CCSS
Developer temperature controller
Direct drain
ASML I/F Wafer stage
Temperature Control Unit (TCU)
(2) Chemical cabinets
T and H Controller missing
Power supply: AC 208 V, 3 Phase
2004 vintage.
L'équipement de photorésistance TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est l'un des principaux systèmes de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce système est conçu pour le développement et la production de couches minces utilisées dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs tels que CPU, GPU, mémoires et autres composants. Il fournit un traitement précis des couches minces nécessaire à l'intégration avancée des dispositifs et dispose de capacités de haute performance pour affiner la formation des couches minces. L'unité TEL ACT 12 est équipée d'un puissant faisceau d'électrons pour le photorésistance et d'un étage d'exposition de haute précision pour le positionnement précis et la fixation du film mince. Avec l'utilisation de la machine de cartographie à double faisceau (DBMS) unique, l'outil est en mesure de fournir des niveaux élevés d'uniformité et de précision dans la formation de couches minces. Le SGBD permet la détection et l'analyse simultanées de la distribution des doses du faisceau d'électrons sur toute la zone de l'échantillon, fournissant une vue à haute résolution du motif de couche mince. TOKYO ELECTRON ACT12 dispose également d'un étage de haute précision et de multiples algorithmes de modélisation pour optimiser la génération de motifs, ainsi que d'un logiciel puissant pour surveiller et diagnostiquer les conditions d'exposition. L'actif supporte une grande variété de matériaux photorésistants et permet le traitement de différents motifs de structures complexes. Le modèle prend également en charge une gamme d'autres options, y compris le contrôle thermique, l'alignement multi-axes et la protection des composants. Avec sa combinaison de précision, de performance et de fonctionnalités avancées, ACT12 équipement photorésist est la solution parfaite pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs haut de gamme. Le système offre les plus hauts niveaux de performance et de précision, permettant aux fabricants de dispositifs de produire les dispositifs semi-conducteurs les plus fins et les plus avancés sur le marché. Il offre également un coût de possession extrêmement bas, ce qui en fait un choix idéal pour tout environnement de production.
Il n'y a pas encore de critiques