Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9377247 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé pour les procédés de lithographie. Ce système utilise la chimie réactive pour transférer un motif de disposition sur un substrat tel qu'une plaquette. Tout le processus est basé sur un processus appelé photolithographie, où la lumière est utilisée pour transférer un motif d'un masque sur une plaquette. Le procédé commence par appliquer sur la plaquette un matériau photosensible, également appelé photorésist. Cette résine photosensible est exposée à la lumière qui sert de masque. Lorsque la plaquette est développée dans une série de produits chimiques, seules les zones exposées à la lumière demeurent sur la plaquette. TEL ACT 12 est un appareil très sophistiqué capable de contrôler la lumière ultraviolette utilisée à partir d'un laser excimère, permettant un contrôle précis de la durée et de l'intensité de l'exposition à la lumière. Cette combinaison de fonctions de commande avancées permet d'imprimer des motifs précis et complexes sur la plaquette. La machine est pilotée par un scanner pas à pas commandé par ordinateur, qui est chargé de positionner avec précision la plaquette de manière à ce que le masque soit exactement aligné sur le circuit de la plaquette. Ce scanner pas à pas a également la capacité de contrôler la position du masque de résine photosensible au foyer, afin d'assurer l'impression du motif exact sur la plaquette. La photorésist est ensuite développée dans un développeur, où les parties exposées de la photorésist se dissolvent, conduisant à ce que l'on appelle une photorésist « développée ». Ce procédé permet une gravure précise des différentes couches dans un circuit intégré. L'outil TOKYO ELECTRON ACT12 peut accueillir un large éventail de substrats, allant des plaquettes de silicium de haute pureté au quartz et au verre, et peut incorporer un nombre varié de processus pas à pas pour s'adapter à différentes applications de lithographie. Sa capacité à réaliser simultanément de nombreux procédés en a fait l'outil indispensable utilisé dans la réalisation de dispositifs semi-conducteurs. En résumé, ACT12 est un actif de photolithographie qui utilise la lumière ultraviolette et la chimie réactive pour graver avec précision des motifs sur un substrat. Ce modèle est très polyvalent et peut accueillir un large éventail de substrats, allant des plaquettes de silicium de haute pureté au quartz et au verre, et peut incorporer un nombre varié de processus de scanner pas à pas pour s'adapter à différentes applications de lithographie.