Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG #9105809 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG (Sub-Micron Optical grating) est un équipement de photorésistance de pointe conçu spécifiquement pour la fabrication de dispositifs submicroniques. Il utilise une technologie de réseau optique avancée pour transférer des motifs de haute résolution allant jusqu'à 20nm sur la surface des plaquettes semi-conductrices. La résine photosensible est ensuite utilisée pour créer des structures, des lignes et des lacunes de sous-microns pour la fabrication de dispositifs. TEL ACT 8 SOG a la capacité de produire des caractéristiques avec une résolution extrêmement élevée, et peut reproduire avec précision un motif d'une profondeur de 20nm sur une plaquette semi-conductrice. Cela permet la production de composants extrêmement précis avec une très grande précision. Ceci est essentiel pour la réalisation réussie de puces mémoire haute densité et de dispositifs semi-conducteurs tels que la mémoire NAND, qui nécessitent une photolithographie haute résolution pour produire les largeurs ultra-courtes des composants. Le système utilise une source laser à longue durée de vie et à forte puissance pour fournir un éclairage à la plus haute résolution possible, et cela est combiné avec une caméra CCD à haute dynamique et une unité d'alignement en boucle fermée pour un alignement précis de la résine photosensible sur la plaquette. Avec cette configuration, les motifs peuvent être produits avec la plus grande précision et la plus grande clarté. La photorésist dispose d'un module avancé de compensation multicouche qui utilise des modèles de diffraction optique pour ajuster et corriger avec précision la conception du réseau, lui permettant de produire des motifs avec des angles et des formes extrêmement peu profonds. Le motif peut être ajusté afin d'apporter des corrections lorsqu'un motif est optimisé pour répondre aux besoins spécifiques du processus de fabrication du dispositif. L'outil TEL ACT 8 dispose également d'un module de revêtement antireflet qui aide à réduire les interférences de la lumière réfléchie, permettant un contraste plus élevé et des parois latérales plus claires pour la production de dispositifs de meilleure résolution. L'actif utilise également une opération sans masque avancée pour contrôler le motif de la résine photosensible. Cette caractéristique lui permet de produire des motifs sans avoir besoin de masques, ce qui réduit considérablement le temps et la complexité des processus. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG est un modèle de photorésist avancé qui permet la production de dispositifs à haute résolution avec une très grande précision et même des structures de forme très peu profondes. Cet équipement peut réduire considérablement le temps et les coûts de traitement et contribuer à améliorer considérablement la qualité des composants semi-conducteurs.