Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9127707 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un outil puissant pour ceux qui nécessitent une fabrication précise de lithographie nano-échelle dans l'industrie de la microélectronique. Le système est conçu pour permettre la gravure de composants électroniques minces sur une grande variété de substrats. L'unité peut graver avec précision les caractéristiques jusqu'à 400 nanomètres de taille, ce qui est exceptionnellement petit. En utilisant un photomasque pour protéger la plaquette de la lumière résistive, la machine peut définir des éléments sur le substrat avec précision. L'outil de photorésistance TEL ACT 8 comprend trois composants principaux : un gestionnaire de plaquettes, un dispositif numérique unifié à micromiroirs (DMD) et un logiciel d'imagerie bidimensionnel (2D). Le gestionnaire de plaquettes est le composant principal de l'actif et il est responsable de la manipulation sécurisée du substrat de plaquettes. Il est équipé d'un mandrin thermique pour maintenir une température constante afin d'assurer une gravure uniforme dans tout le substrat. En outre, le gestionnaire de plaquettes dispose d'une optique spéciale qui a à la fois un modèle de balayage automatisé et de hauteur z. Le DMD unifié est un composant avancé qui est utilisé pour le masquage programmé. Il comprend deux composantes distinctes - une composante optique transparente et une composante d'imagerie bidimensionnelle. Le premier composant fournit une résolution extrêmement rapide à la précision du nanomètre, tandis que le second composant garantit une stabilité de focalisation de phase pendant l'exposition. Ce mécanisme assure une gravure uniforme et précise du substrat. La dernière partie du matériel de photorésistance TOKYO ELECTRON ACT 8 est le logiciel d'imagerie 2D propriétaire. Ce logiciel permet une imagerie précise avec des scripts microlITHO - un outil puissant utilisé pour concevoir et affiner des masques pour l'appareil. Il dispose également de fonctions d'auto-correction qui peuvent ajuster les images pendant l'imagerie et la gravure pour garantir la conception parfaite. TEL ACT 8 offre de nombreux avantages par rapport aux systèmes précédents. Avec sa résolution nano-échelle et ses capacités d'imagerie automatisée, l'unité est parfaite pour la lithographie nano-échelle et la production de composants et substrats ultra-minces. Cela fait de la machine un outil puissant pour la production de microélectronique sur une variété de matériaux. De plus, son logiciel bidimensionnel (2D) permet une imagerie précise et un script microlITHO pour garantir un design parfait.