Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9142704 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance utilisé dans la fabrication de dispositifs électroniques, tels que circuits intégrés (IC), panneaux d'affichage et systèmes microélectromécaniques (MEMS). Le système est basé sur une technologie de transfert de motifs et est utilisé pour créer des motifs de précision à la surface d'un substrat. Il se compose d'un écrivain de masque numérique, unité d'exposition, photorésist, développeur, etchant, et unités de placage. L'unité optimise le flux de processus et simplifie le processus de lithographie. L'enregistreur de masque numérique est utilisé pour créer le motif de masque qui sera transféré sur le substrat. Ce masque est ensuite éclairé soit à partir d'une source ultraviolette (UV), soit à partir d'une source lumineuse EBS (Electron Beam Source). L'intensité de la lumière peut être ajustée pour tenir compte de différentes profondeurs d'exposition. L'unité d'exposition est conçue pour offrir une grande précision et répétabilité dans le transfert de motifs. Il contient un porte-masque de précision, ainsi qu'un illuminateur à haut contraste et un illuminateur UV réglable qui donne à l'utilisateur le contrôle ultime sur le processus d'exposition. La résine photosensible est un polymère spécialement conçu pour absorber le rayonnement et en modifier les caractéristiques. Il devient soluble lorsqu'il est exposé aux longueurs d'onde appropriées de la lumière UV ou d'un EBS. Lorsque les niveaux d'exposition souhaités ont été atteints, la résine photosensible est prête à être lavée ou trempée dans le révélateur pour éliminer les zones non exposées. Le révélateur est une solution utilisée pour graver et façonner la surface du substrat. Le développeur doit être constamment entretenu et surveillé pour s'assurer que la résine photosensible ne soit pas surexposée. L'etchant est ensuite utilisé pour couper, façonner et lisser le substrat. Il fonctionne en enlevant toute zone exposée sur le substrat. Le procédé de gravure peut être ajusté pour atteindre la largeur et la profondeur souhaitées avec précision. Enfin, l'unité de placage peut être utilisée pour ajouter un revêtement métallique ou alliage sur toute zone exposée du substrat. Le revêtement est appliqué dans une seule zone exposée afin d'obtenir la forme et la taille souhaitées. En conclusion, la photorésistance TEL ACT 8 est un outil idéal pour créer des motifs précis et précis à la surface d'un substrat. Il a un enregistreur de masque numérique pour créer rapidement et facilement un motif de masque, une source de lumière UV/EBS réglable pour atteindre la profondeur d'exposition souhaitée, un étage de photorésist pour s'assurer que le motif est correctement exposé, et un étage de gravure de développeur et de placage pour ajouter toute couche de revêtement ou d'alliage souhaitée. Cet outil complet permet un transfert de motifs rapide, précis et fiable pour s'assurer que les appareils apparaissent parfaits.