Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9142707 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8
ID: 9142707
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
(2) Coater / (2) Developer systems, 8" 1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance développé par TEL LIMITED (TOKYO ELECTRON). C'est un système très avancé et polyvalent qui est utilisé pour des applications de photolithographie et de lithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. TEL ACT 8 comprend plusieurs composantes. Il s'agit notamment d'un scanner d'uniformité de haute qualité, d'une unité de gestion entièrement automatisée des résines photosensibles et d'une chambre de traitement avancée des plaquettes. Le scanner est utilisé pour modéliser des images sur des plaquettes avec un haut niveau de précision. Il est capable d'atteindre une résolution de balayage de 0,25 microns, ce qui convient à une large gamme d'appareils électroniques. La machine automatisée de gestion des photorésistances de TOKYO ELECTRON ACT 8 est utilisée pour assurer une qualité et une précision constantes tout au long des processus de photolithographie et de lithographie. Cet outil est équipé d'un logiciel basé sur la précision qui suit et surveille l'utilisation de la résine photosensible sur chaque plaquette. En outre, cet actif est conçu pour réduire la quantité de nettoyage et d'entretien inutiles requis. La chambre de traitement avancée des plaquettes de TOKYO ELECTRON ACT 8 est conçue pour assurer des performances cohérentes et reproductibles. Cette chambre est équipée d'un modèle de contrôle thermique amélioré, de la dynamique du flux d'air et de la technologie de contrôle des vibrations, entre autres. Il est capable de fournir des applications de lithographie très puissantes et avancées à des vitesses élevées. ACT 8 dispose également d'un logiciel très avancé pour contrôler l'ensemble du processus. Ce paquet aide à synchroniser le scanner avec la chambre de traitement de la plaquette, permettant une lithographie efficace et précise. En outre, cet équipement offre également une fonction innovante « écriture directe » qui permet de manipuler directement le motif de la plaquette. Cela permet d'obtenir des résultats supérieurs aux méthodes traditionnelles de lithographie. Dans l'ensemble, ACT 8 est un système de photorésistance très avancé pour des applications de photolithographie et de lithographie exigeantes. C'est un outil essentiel pour les entreprises de l'industrie des semi-conducteurs qui cherchent à produire des appareils électroniques de haute qualité et précis.
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