Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9151698 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu spécifiquement pour la production de substrats de circuits intégrés légers (IC). Ce système utilise une couche de résine photosensible pour créer les masques nécessaires à l'étape ultérieure de lithographie. Cette couche permet d'adapter la sensibilité de la lumière à des longueurs d'onde spécifiques, ce qui permet de produire les IC avec plus de précision. Les principaux composants de TEL ACT 8 sont le module d'exposition, qui contient le photomasque, un mandrin et un étage de filage, et un laser UV. Le laser UV est utilisé pour générer un motif d'intensité variable sur la couche de résine photosensible. Ce motif est créé par le mandrin et l'étage de filage, qui est utilisé pour déplacer le photomasque sous le laser UV. Le motif est ensuite exposé sur le substrat du circuit intégré, qui est ensuite traité par les autres composants de la machine. Afin d'assurer précision et précision dans la production des IC, TOKYO ELECTRON ACT 8 dispose également d'une unité d'imagerie très sensible. Cette machine effectue un balayage détaillé de la couche de résine photosensible après son exposition, afin de s'assurer que les éventuelles modifications du motif sont détectées et peuvent être prises en compte. En outre, l'outil contient une unité de contrôle de métrologie avancée, qui a la capacité de mesurer jusqu'à 0,1 microns afin d'assurer la précision. L'actif est également susceptible d'exposition par contact, la couche de photorésist servant de masque négatif pour transférer des images directement sur le substrat du circuit intégré. Cette méthode est utilisée lorsque des masques très précis sont nécessaires ou lorsque de petites caractéristiques doivent être générées à un rendement élevé. TOKYO ELECTRON ACT 8 est un modèle de photorésist très avancé conçu pour créer les masques nécessaires à l'étape ultérieure de lithographie. Cet équipement contient un module d'exposition, un système d'imagerie et une unité de contrôle de la métrologie, qui travaillent tous ensemble pour assurer la précision et la précision nécessaires à la production d'IC légers. Cette unité est capable de contacter l'exposition et est capable de générer des images jusqu'à 0,1 microns de taille.