Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9235231 à vendre en France
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ID: 9235231
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2010
System, 8"
2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour fournir des services de photolithographie et de photohardening pour des applications avancées de procédés microélectroniques. Le système combine une technologie d'alignement d'imagerie optique très précise, un traitement d'image avancé et des technologies de contrôle d'automatisation précises pour optimiser le processus de photolithographie avec une extrême précision. Une unité d'imagerie optoélectronique avancée est utilisée pour aligner et surveiller l'exposition des substrats sur le film photorésistant. La machine inspecte le substrat pour vérifier l'alignement et déterminer les zones à exposer. Le procédé d'imagerie optique utilise des capteurs d'interférence laser ou d'imagerie pour réaliser un alignement précis du substrat et du film photorésiste. L'outil d'imagerie embarqué permet d'ajuster l'exposition photolithographique, assurant la meilleure qualité d'image indépendamment des variations de processus ou du type de substrat. L'actif est conçu pour produire des images à haute résolution avec une exposition minimale aux produits chimiques photohardening. Pour ce faire, le modèle intègre une technologie d'imagerie CCD (Charge-Coupled Device) à haut rendement, à faible bruit, qui permet d'acquérir rapidement un grand nombre d'images avec un rapport de contraste élevé. La technologie d'imagerie CCD réduit également le bruit et permet un contrôle efficace de l'exposition. L'équipement photorésist intègre également une large gamme de capacités d'automatisation et de contrôle de processus. Il dispose d'une grande base de données de recettes qui permettent une personnalisation facile de la recette photorésist et fournit un haut degré de flexibilité dans la gestion de l'exposition photorésist. Le système automatisé intègre également une capacité d'autodiagnostic qui permet de détecter les erreurs dans le matériau photorésist et de résoudre les problèmes causés par les erreurs de photolithographie. Pour assurer une précision absolue de l'unité de photorésistance, la machine est équipée d'un outil automatisé d'inspection du substrat capable de mesurer les spécifications et le niveau de qualité du film de photorésist. L'actif peut également détecter automatiquement toute irrégularité dans le film photorésist et fournir des mesures correctives, garantissant une qualité cohérente dans tous les processus. En résumé, le modèle TEL ACT 8 est un équipement de photorésistance de pointe qui comprend un alignement optique de haute précision, une imagerie CCD de pointe et des capacités améliorées de contrôle des processus pour fournir des services de photolithographie et de photohardening très précis pour les applications de procédés microélectroniques. La précision, l'efficacité et l'adaptabilité du système en font un choix idéal pour les applications microélectroniques les plus avancées.
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